基于MEMS工艺的微型磁通门传感器研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·微型磁通门传感器的应用背景 | 第9-10页 |
| ·微型磁通门传感器的发展现状 | 第10-13页 |
| ·本论文主要工作 | 第13-14页 |
| 第二章 微型磁通门传感器的工作原理 | 第14-19页 |
| ·磁通门传感器的工作原理 | 第14-16页 |
| ·磁通门传感器的结构 | 第16-18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 磁通门传感器的有限元模拟 | 第19-40页 |
| ·有限元电场、磁场分析 | 第19-20页 |
| ·第一阶段处理模块 | 第19-20页 |
| ·求解模块 | 第20页 |
| ·典型线圈的分析模型 | 第20-23页 |
| ·磁通门传感器的二维磁场有限元分析 | 第23-25页 |
| ·有限元分析步骤 | 第25-30页 |
| ·定义材料属性 | 第25-26页 |
| ·网格化 | 第26-27页 |
| ·后处理阶段的模型尺寸化 | 第27-28页 |
| ·后处理 | 第28页 |
| ·查看结果 | 第28-30页 |
| ·数值模拟 | 第30-39页 |
| ·磁芯的影响 | 第31-37页 |
| ·线圈匝数 | 第37-38页 |
| ·绝缘材料 | 第38-39页 |
| ·分析结论 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 Ni/Fe 磁性薄膜的电镀工艺研究 | 第40-46页 |
| ·磁性材料的选择 | 第40-42页 |
| ·坡莫合金 | 第40-41页 |
| ·铁氧体 | 第41页 |
| ·非晶、纳米晶软磁材料 | 第41页 |
| ·结论分析 | 第41-42页 |
| ·Ni／Fe 磁性薄膜电镀工艺的研究与分析 | 第42-45页 |
| ·Ni／Fe 合金电镀原理 | 第42-43页 |
| ·Ni／Fe 合金电镀装置及电镀液配制方法 | 第43-44页 |
| ·影响电镀质量的因素 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 微型磁通门传感器的制作工艺 | 第46-51页 |
| ·磁通门传感器整体工艺流程 | 第46-50页 |
| ·基片的处理 | 第47-48页 |
| ·底层导线和第一层绝缘层的制作 | 第48-49页 |
| ·Ni／Fe 合金磁芯和第二层绝缘层的制作 | 第49页 |
| ·制作顶层导线 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第六章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 在学研究成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
