| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-20页 |
| ·ZnO材料的基本特性 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜的用途 | 第11-13页 |
| ·掺杂ZnO薄膜的研究 | 第13-16页 |
| ·Ge掺杂ZnO的背景、研究现状和应用前景 | 第16-17页 |
| ·当前ZnO材料研究面临的问题 | 第17-18页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征 | 第20-33页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第20-24页 |
| ·基片及其预处理 | 第24-25页 |
| ·薄膜的沉积 | 第25页 |
| ·样品的退火处理 | 第25-26页 |
| ·薄膜特性的表征 | 第26-33页 |
| 第三章 共溅射沉积Ge-ZnO薄膜的结构和光致发光的特性 | 第33-55页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第33-36页 |
| ·基片温度对Ge掺杂的ZnO薄膜的结构和光学特性的影响 | 第36-48页 |
| ·氧偏压对Ge掺杂的ZnO薄膜的结构和光学特性的影响 | 第48-55页 |
| 第四章 结论 | 第55-57页 |
| ·基片温度对Ge掺杂的ZnO薄膜的结构和光学特性的影响 | 第55页 |
| ·氧偏压对Ge掺杂的ZnO薄膜的结构和光学特性的影响 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 详细摘要 | 第61-63页 |
