| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-20页 |
| ·ZnO的性能 | 第9-17页 |
| ·ZnO的晶格特性 | 第9-10页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜的p型掺杂 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的磁性掺杂 | 第13-17页 |
| ·ZnO材料研究面临的问题 | 第17页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-20页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备 | 第20-29页 |
| ·射频磁控溅射沉积原理 | 第20-24页 |
| ·溅射原理 | 第20-21页 |
| ·射频溅射 | 第21页 |
| ·磁控溅射 | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射 | 第22-24页 |
| ·化学气相沉积 | 第24页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第25页 |
| ·分子束外延 | 第25-26页 |
| ·溶胶凝胶 | 第26页 |
| ·基片的清洗 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-29页 |
| 第三章 ZnO薄膜的表征 | 第29-38页 |
| ·膜厚的测量 | 第29页 |
| ·X射线电子能谱分析(XPS) | 第29-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第32-33页 |
| ·紫外透射和吸收谱分析 | 第33-34页 |
| ·超导量子干涉仪(SQUID) | 第34-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 Zn_(1-x)Cu_xO薄膜结构、光学和磁学性质 | 第38-52页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第38-41页 |
| ·Si衬底Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的SEM照片 | 第41-43页 |
| ·Si衬底Zn_(0.855)Cu_(0.145)O薄膜的XPS分析 | 第43-45页 |
| ·透明石英玻璃衬底Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的光学性质 | 第45-47页 |
| ·Si衬底Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的M-H曲线 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 硕士期间发表论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 详细摘要 | 第55-57页 |
