| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·掺钕光波导放大器发展概况 | 第12-14页 |
| ·光纤放大器发展概况 | 第14-18页 |
| ·掺钕光纤放大器发展概况 | 第15-17页 |
| ·掺镱光纤放大器发展概况 | 第17-18页 |
| ·阵列式光放大器的发展概况 | 第18-19页 |
| ·本论文的选题依据和主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 阵列式光波导放大器的理论基础与总体方案设计 | 第21-34页 |
| ·光波导理论基础 | 第21-27页 |
| ·离子交换法制作光波导的理论基础 | 第27-29页 |
| ·阵列式光波导放大器总体方案设计 | 第29-34页 |
| ·光波导放大器的放大原理 | 第29-30页 |
| ·阵列式光波导放大器的实现方案 | 第30-31页 |
| ·泵浦方式的选择 | 第31-34页 |
| 第三章 阵列式光波导放大器实验研究 | 第34-93页 |
| ·平板波导实验研究 | 第34-60页 |
| ·离子交换法制作平板波导的实验方案 | 第34-41页 |
| ·平板波导制作工艺流程 | 第41-45页 |
| ·实验结果及其结果分析 | 第45-50页 |
| ·交换温度的影响 | 第45-46页 |
| ·Ag~+浓度的影响 | 第46页 |
| ·交换时间的影响 | 第46-47页 |
| ·单模和多模工艺条件 | 第47-50页 |
| ·影响实验结果的因素 | 第50-60页 |
| ·基片的清洗 | 第50-52页 |
| ·基片的预热 | 第52页 |
| ·基片在融盐中的交换 | 第52-56页 |
| ·交换后的冷却问题 | 第56-58页 |
| ·熔盐质量的影响 | 第58-59页 |
| ·实验环境的影响 | 第59-60页 |
| ·沟道波导实验研究 | 第60-93页 |
| ·沟道波导理论设计 | 第60-64页 |
| ·掩膜板的设计 | 第64-66页 |
| ·沟道波导制作工艺 | 第66-71页 |
| ·沟道波导的离子交换实验研究 | 第71-80页 |
| ·离子交换方式的改进 | 第71-76页 |
| ·融盐脱水对离子交换的影响 | 第76-78页 |
| ·沟道波导离子交换工艺条件 | 第78-80页 |
| ·实验结果及结果分析 | 第80-83页 |
| ·光纤-波导的耦合问题 | 第83-86页 |
| ·影响沟道波导制作的因素 | 第86-93页 |
| ·光刻的影响 | 第86-88页 |
| ·玻璃花篮的影响 | 第88-89页 |
| ·基片切割和抛光的影响 | 第89-91页 |
| ·环境的影响 | 第91-93页 |
| 第四章 阵列式光纤放大器的设计与制作 | 第93-114页 |
| ·光纤放大器的理论基础 | 第93-95页 |
| ·阵列式光纤放大器的方案设计 | 第95-97页 |
| ·阵列式光纤放大器的制作 | 第97-107页 |
| ·光纤放大器的泵浦源 | 第98-99页 |
| ·光纤放大器光路部分的制作 | 第99-105页 |
| ·光纤放大器的组装 | 第105-107页 |
| ·阵列式光纤放大器的测试 | 第107-112页 |
| ·泵浦源的测试 | 第107-108页 |
| ·掺镱光纤长度的优化 | 第108-110页 |
| ·光纤放大器增益测试 | 第110-112页 |
| ·改进的放大器设计方案 | 第112-114页 |
| 第五章 总结和展望 | 第114-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-122页 |
| 附录 | 第122-128页 |
| 在学期间的研究成果 | 第128-129页 |