| 第一章 绪论 | 第1-12页 |
| 1．1 硅微电子技术的发展 | 第8-9页 |
| 1．2 通信技术热点及射频集成电路的出现 | 第9页 |
| 1．3 选题背景 | 第9-10页 |
| 1．4 论文的研究内容和结构 | 第10-12页 |
| 第二章 硅集成电感物理模型 | 第12-23页 |
| 2．1 集成电感介绍 | 第12-13页 |
| 2．2 电感计算 | 第13-16页 |
| 2．2．1 电感的基础定义 | 第13-14页 |
| 2．2．2 Grover法 | 第14-16页 |
| 2．3 等效电路模型和参数提取 | 第16-20页 |
| 2．3．1 高频寄生效应 | 第16-18页 |
| 2．3．2 电感等效电路模型 | 第18-19页 |
| 2．3．3 参数提取 | 第19-20页 |
| 2．4 品质因数Q | 第20-22页 |
| 2．4．1 品质因数基础定义 | 第20-21页 |
| 2．4．2 Q值提取方法 | 第21-22页 |
| 2．5 小结 | 第22-23页 |
| 第三章 硅工艺的电感制作及发展状况 | 第23-28页 |
| 3．1 常规射频集成电感硅工艺实现 | 第23-24页 |
| 3．2 硅集成电感研究进展及提高Q值的方法 | 第24-26页 |
| 3．3 电感测试法 | 第26-27页 |
| 3．4 小结 | 第27-28页 |
| 第四章 集成电感的模拟及实用结论 | 第28-37页 |
| 4．1 ASITIC介绍 | 第28-29页 |
| 4．2 模拟和分析结果 | 第29-35页 |
| 4．2．1 几何参数 | 第29-32页 |
| 4．2．2 工艺参数 | 第32-34页 |
| 4．2．3 组成形式 | 第34-35页 |
| 4．3 设计原则 | 第35-36页 |
| 4．3．1 从几何参数考虑： | 第35页 |
| 4．3．2 从工艺参数考虑： | 第35-36页 |
| 4．3．3 对于多层电感来说： | 第36页 |
| 4．4 小结 | 第36-37页 |
| 第五章 基于克隆选择算法的平面螺旋电感优化技术 | 第37-46页 |
| 5．1 克隆选择算法 | 第37-40页 |
| 5．1．1 基本概念 | 第37-38页 |
| 5．1．2 克隆选择算法CSA(Clonal Selection Algorithm) | 第38-39页 |
| 5．1．3 简单克隆选择算法的收敛性 | 第39-40页 |
| 5．2 平面螺旋电感优化技术 | 第40-43页 |
| 5．2．1 采用克隆选择算法优化原因 | 第40-41页 |
| 5．2．2 优化算法的设计过程 | 第41-43页 |
| 5．3 优化结果及分析 | 第43-45页 |
| 5．4 小结 | 第45-46页 |
| 全文总结 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第53-54页 |
| 附录A | 第54-55页 |
| 附录B | 第55-57页 |