| 目录 | 第1-10页 |
| 前言 | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-30页 |
| ·铁电-铁磁材料概述 | 第12-13页 |
| ·铁磁材料及其本质 | 第13-19页 |
| ·铁磁材料的本质 | 第15-16页 |
| ·钙钛矿结构的铁磁材料 | 第16-19页 |
| ·铁电材料及其本质 | 第19-23页 |
| ·铁电材料的本质 | 第20-21页 |
| ·钙钛矿结构的铁电材料 | 第21-23页 |
| ·钙钛矿结构的复铁电性磁电子材料 | 第23-28页 |
| ·晶体结构 | 第24-26页 |
| ·电子结构 | 第26页 |
| ·电子结构与晶体结构的耦合 | 第26-27页 |
| ·化学“d~0-ness” | 第27页 |
| ·相变 | 第27-28页 |
| ·射频磁控溅射法制备复铁电性的磁电子薄膜 | 第28-29页 |
| ·本论文的研究目的与意义 | 第29-30页 |
| 第二章 实验过程 | 第30-40页 |
| ·实验仪器 | 第30-32页 |
| ·射频磁控溅射仪及工艺介绍 | 第30-31页 |
| ·真空热蒸发试验设备 | 第31-32页 |
| ·高温炉 | 第32页 |
| ·高能球磨机 | 第32页 |
| ·实验材料 | 第32-33页 |
| ·块材和薄膜制备用原材料 | 第32-33页 |
| ·基板材料 | 第33页 |
| ·测试方法 | 第33-36页 |
| ·X射线衍射 | 第33-34页 |
| ·扫描电镜(SEM)及能谱仪(EDS) | 第34页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第34-35页 |
| ·差热分析 | 第35页 |
| ·电阻率测试 | 第35页 |
| ·介电性能测试 | 第35-36页 |
| ·块材样品的制备与测试 | 第36页 |
| ·薄膜的制备 | 第36-40页 |
| ·靶材的制备 | 第36-37页 |
| ·基板的清洗 | 第37页 |
| ·基板底电极的制备 | 第37页 |
| ·薄膜的制备与测试 | 第37-39页 |
| ·顶电极的制备 | 第39-40页 |
| 第三章 La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3块材样品的结构性能与电性能研究 | 第40-56页 |
| ·La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3样品的结构性能研究 | 第40-44页 |
| ·La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3样品的介电性能研究 | 第44-54页 |
| ·La_(0.5)Ca_(0.5)Mn_xTi_(1-x)O_3样品的电阻特性研究 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 射频磁控溅射LCMTO／Si(100)薄膜的结构性能研究 | 第56-66页 |
| ·Si(100)基板上LCMTO薄膜的晶相形成 | 第56-60页 |
| ·Si(100)基板上LCMTO薄膜晶格结构与热处理温度之间的关系 | 第60-61页 |
| ·Si(100)基板上LCMTO薄膜的厚度对其结构性能的影响 | 第61-63页 |
| ·Si(100)基板上LCMTO薄膜结构性能受氧分压的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 LCMTO／Ag／Si(100)薄膜的结构性能与介电性能研究 | 第66-75页 |
| ·Ag／Si(100)基板上薄膜结构性能研究 | 第66-70页 |
| ·Ag／Si(100)基板上LCMTO薄膜介电性能研究 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 硕士阶段已录用及已投稿论文 | 第83-84页 |
