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应用于下一代MOSFET中的高介电栅介质材料的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-27页
   ·电介质及介电材料第11-12页
   ·高介电栅极材料的研究背景及现状第12-23页
   ·本文的意义,目标及内容第23-24页
   ·本章小结第24-25页
 参考文献第25-27页
第二章 薄膜制备及微结构、电学性质表征原理与方法第27-49页
   ·薄膜制备第27-31页
   ·薄膜的微结构表征第31-33页
   ·电学性质测试第33-46页
   ·其他表征方法第46-47页
   ·本章小结第47-48页
 参考文献第48-49页
第三章 LaAlO_3及LaAlO_xN_y的结构及热稳定性第49-68页
   ·LAO 及 LAON 的薄膜形态及热稳定性第49-54页
   ·LAO 及 LAON 的组分分析第54页
   ·LAO 及 LAON 的 AFM 表面形貌分析第54-56页
   ·薄膜与衬底的界面结构研究第56-64页
   ·LAO 及 LAON 的傅立叶红外光谱第64-66页
   ·本章小结第66-67页
 参考文献第67-68页
第四章 LaAlO_3及LaAlO_xN_y的电学性质第68-84页
   ·LaAlO_3的基本电学性质第68-70页
   ·制备参数对LaAlO_3电学性能的影响第70-77页
   ·掺氮对LaAlO_3电学性能的影响第77-80页
   ·样品电学性能的可重复性研究第80-81页
   ·本章小结第81-83页
 参考文献第83-84页
第五章 Zr_(0.26)Sn_(0.23)Ti_(0.51)O_(2)-δ及Zr_(0.26)Sn_(0.23)Ti_(0.51)O_xN_y薄膜的结构及介电性第84-96页
   ·Zr_(0.26)Sn_(0.23)Ti_(0.51)O_(2)-δ薄膜的研究背景第84-85页
   ·实验介绍第85-86页
   ·实验结果及讨论第86-93页
   ·本章小结第93-95页
 参考文献第95-96页
第六章 结论及研究展望第96-99页
   ·结论第96-98页
   ·研究展望第98-99页
攻读博士学位期间发表或待发表的论文第99-100页
致谢第100页

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