LCD用AR/EMI显示窗口的膜系研制
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 引言 | 第13页 |
| ·平板显示技术概述 | 第13-15页 |
| ·光学薄膜的发展及应用 | 第15-17页 |
| ·ITO 透明导电膜的发展状况 | 第17-19页 |
| ·主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 光学薄膜原理及其设计的理论基础 | 第21-34页 |
| ·光学薄膜的基本原理 | 第21-25页 |
| ·光的波动性 | 第21页 |
| ·薄膜干涉现象 | 第21-25页 |
| ·光学薄膜的干涉特征矩阵 | 第25-30页 |
| ·单层薄膜的干涉特征矩阵 | 第25-28页 |
| ·多层薄膜的干涉特征矩阵 | 第28-30页 |
| ·ITO 透明导电膜的基本原理 | 第30-34页 |
| ·ITO 薄膜的光学性质 | 第30-31页 |
| ·ITO 薄膜的电学性质 | 第31-32页 |
| ·电磁屏蔽原理及 ITO 薄膜对屏蔽性能的影响 | 第32-34页 |
| 第三章 AR/EMI 显示窗口的膜系设计 | 第34-48页 |
| ·增透膜原理 | 第34-35页 |
| ·组合膜系设计的思路 | 第35-40页 |
| ·单层增透膜 | 第35-37页 |
| ·双层增透膜 | 第37-38页 |
| ·三层增透膜 | 第38-40页 |
| ·ITO 组合多层增透膜系的设计 | 第40-48页 |
| 第四章 AR/EMI 显示窗口样片测试 | 第48-57页 |
| ·AR/EMI 样片的透射率与反射率测试 | 第48-49页 |
| ·AR/EMI 样片的膜厚测试 | 第49-54页 |
| ·椭圆偏振光谱仪原理 | 第49-51页 |
| ·测试薄膜厚度的分析 | 第51-54页 |
| ·ITO 膜层的方阻测试及其电磁屏蔽效率计算 | 第54-57页 |
| ·ITO 膜层的方块电阻的测试 | 第54-55页 |
| ·ITO 膜层的电磁屏蔽效率 | 第55-57页 |
| 第五章 光学薄膜的制备技术及工艺研究 | 第57-68页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第57-60页 |
| ·气相沉积法 | 第57-58页 |
| ·真空反应蒸发法 | 第58页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第58-59页 |
| ·磁控溅射法 | 第59-60页 |
| ·薄膜镀制的工艺流程 | 第60-63页 |
| ·误差分析 | 第63-68页 |
| 第六章 总结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72-73页 |
