双介孔SiO2的制备及其表征
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
前言 | 第8-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-25页 |
·介孔材料的研究进展 | 第9-16页 |
·介孔材料简介 | 第9页 |
·介孔材料分类 | 第9-12页 |
·介孔材料的形成机理 | 第12-14页 |
·介孔材料的应用及新进展 | 第14-16页 |
·双介孔材料的制备 | 第16-19页 |
·单模板法 | 第16-17页 |
·双模板法 | 第17-18页 |
·非模板法 | 第18-19页 |
·影响双介孔材料性质的因素 | 第19-21页 |
·模板剂的选择 | 第19-20页 |
·不同反应时间和温度 | 第20页 |
·体系pH值的影响 | 第20-21页 |
·引导剂或预置晶种的加入 | 第21页 |
·不同碱介质的影响 | 第21页 |
·双介孔材料的应用领域及发展趋势 | 第21-23页 |
·吸附领域 | 第22页 |
·催化领域 | 第22-23页 |
·双介孔材料的发展趋势 | 第23页 |
·课题来源及意义 | 第23-25页 |
第二章 实验部分 | 第25-29页 |
·实验试剂与仪器 | 第25-26页 |
·实验所用试剂 | 第25页 |
·实验仪器 | 第25-26页 |
·SiO_2 的制备 | 第26-27页 |
·溶胶―凝胶法制备双介孔SiO_2 | 第26页 |
·硅胶原位生长制备双介孔SiO_2 | 第26-27页 |
·溶胶―凝胶法制备MCM-41 | 第27页 |
·SiO_2 样品的表征 | 第27-29页 |
·热重/差热(TG/DTA)分析 | 第27页 |
·红外光谱(FT-IR)分析 | 第27页 |
·X射线衍射(XRD)分析 | 第27页 |
·N_2 吸附-脱附等温线(BET)分析 | 第27-28页 |
·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第28页 |
·场发射透射电子显微镜(HRTEM)分析 | 第28-29页 |
第三章 溶胶―凝胶法制备双介孔SiO_2 | 第29-45页 |
·SiO_2 合成过程的分析 | 第29-32页 |
·热重/差热分析 | 第29-30页 |
·红外谱图分析 | 第30-31页 |
·XRD谱图的分析 | 第31-32页 |
·氨水用量对SiO_2 结构的影响 | 第32-35页 |
·模板剂用量对SiO_2 结构的影响 | 第35-38页 |
·溶剂用量对SiO_2 结构的影响 | 第38-41页 |
·助溶剂的加入对SiO_2 结构的影响 | 第41-42页 |
·扩孔剂的加入对SiO_2 结构的影响 | 第42-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
第四章 硅胶原位生长制备双介孔SiO_2 | 第45-59页 |
·SiO_2 合成过程的分析 | 第45-50页 |
·SiO_2 红外谱图分析 | 第45-46页 |
·SiO_2 孔的形成过程分析 | 第46-49页 |
·SiO_2 孔的有序性XRD分析 | 第49-50页 |
·硅源用量对SiO_2 结构的影响 | 第50-53页 |
·制备方法对SiO_2 结构的影响 | 第53-56页 |
·加料顺序对SiO_2 结构的影响 | 第56-58页 |
·小结 | 第58-59页 |
第五章 结论及工作展望 | 第59-61页 |
·结论 | 第59-60页 |
·工作展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-69页 |
致谢 | 第69页 |