| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 微通道技术概述 | 第12-26页 |
| ·微通道的简介 | 第12页 |
| ·微通道的应用及意义 | 第12-17页 |
| ·微电子机械系统技术简介 | 第17-20页 |
| ·MEMS技术应用于微通道的制备 | 第20-22页 |
| ·硅微通道的研究现状介绍 | 第22-24页 |
| ·本论文的研究内容和主要工作 | 第24页 |
| ·本论文的研究意义 | 第24-26页 |
| 第二章 大深宽比自分离硅微通道的制作原理 | 第26-33页 |
| ·多孔硅刻蚀的基本原理 | 第26-29页 |
| ·电化学深刻蚀技术形成P型多孔硅的基本原理 | 第29-33页 |
| 第三章 大深宽比自分离硅微通道的制造工艺和实验装置 | 第33-46页 |
| ·硅微通道的制造工艺 | 第33-41页 |
| ·电化学刻蚀硅微通道的实验装置 | 第41-43页 |
| ·电化学刻蚀硅微通道的影响因素 | 第43-46页 |
| 第四章 硅微通道的氧化 | 第46-53页 |
| ·为什么对微通道进行氧化 | 第46-47页 |
| ·微通道氧化工艺 | 第47-51页 |
| ·硅微通道氧化过程中发现的问题 | 第51-53页 |
| 第五章 硅微通道氧化研究及改进 | 第53-63页 |
| ·氧化过程力学上的仿真和分析 | 第53-58页 |
| ·氧化过程实验上的改进和结果 | 第58-63页 |
| 第六章 总结以及展望 | 第63-66页 |
| ·总结 | 第63-64页 |
| ·硅微通道技术应用展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |