| 论文摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·本课题的研究背景和意义 | 第10-12页 |
| ·RF MEMS滤波器国内外研究现状 | 第12-19页 |
| ·本论文研究思路和研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 DGS结构的MEMS可重构低通滤波器的原理 | 第21-37页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·传输线基础 | 第21-23页 |
| ·共平面波导传输线(Coplanar Waveguide)基本理论 | 第23-27页 |
| ·共平面波导传输线概述 | 第23-24页 |
| ·共平面波导传输线的传输特性参数 | 第24-27页 |
| ·DGS基本理论 | 第27-34页 |
| ·电磁带隙材料及结构概述 | 第27-29页 |
| ·缺陷接地地结构(DGS)的提出 | 第29-30页 |
| ·DGS的几种常见形状简介 | 第30-34页 |
| ·微波两端口网络 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 MEMS可重构低通滤波器的设计 | 第37-51页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·滤波器技术指标 | 第37-38页 |
| ·滤波器的设计方法 | 第38-39页 |
| ·共面波导DGS结构用于MEMS可重构低通滤波器的设计 | 第39-49页 |
| ·DGS单个单元等效电路的提取 | 第39-41页 |
| ·可调膜桥电容 | 第41-42页 |
| ·引入MEMS分布电容实现低通滤波单元 | 第42-44页 |
| ·滤波器的可重构技术 | 第44-49页 |
| ·版图设计 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 MEMS可重构低通滤波器的工艺制备 | 第51-61页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·主要工艺研究 | 第51-56页 |
| ·清洗工艺 | 第51-52页 |
| ·光刻工艺 | 第52-54页 |
| ·腐蚀工艺 | 第54页 |
| ·牺牲层工艺 | 第54-55页 |
| ·工艺缺陷探讨 | 第55-56页 |
| ·可重构低通滤波器的工艺制备 | 第56-59页 |
| ·滤波器整体工艺流程 | 第56-57页 |
| ·滤波器工艺流程图 | 第57-59页 |
| ·实验所得的样品图 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 MEMS可重构低通滤波器的测试 | 第61-67页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·MEMS电容膜桥下拉电压测试 | 第61-62页 |
| ·MEMS可重构低通滤波器的微波性能测试 | 第62-66页 |
| ·测试环境和测试系统 | 第62-63页 |
| ·测试原理 | 第63-64页 |
| ·测试结果与分析 | 第64-65页 |
| ·电容膜桥的寿命测试 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论与展望 | 第67-69页 |
| ·总结 | 第67页 |
| ·存在的问题和今后工作建议 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和申请的专利论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
