用于动态红外场景产生器的TaN薄膜研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-14页 |
| ·电阻阵列红外场景产生器 | 第11-13页 |
| ·微桥结构电阻阵列 | 第13-14页 |
| ·氮化钽薄膜的研究现状 | 第14-17页 |
| ·TaN 薄膜的性能与应用 | 第14-15页 |
| ·TaN 薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| ·课题的研究意义 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 试验与测试方法 | 第19-29页 |
| ·氮化钽薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·反应磁控溅射的原理 | 第19-20页 |
| ·本文所采用的溅射设备 | 第20-21页 |
| ·微观分析方法 | 第21-26页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第21-23页 |
| ·SEM 的工作原理 | 第23-24页 |
| ·AFM 的工作原理 | 第24-25页 |
| ·薄膜厚度测试（台阶仪） | 第25-26页 |
| ·薄膜性能表征 | 第26-29页 |
| ·方阻测试（四探针） | 第26-27页 |
| ·电阻温度系数（TCR）测量 | 第27-29页 |
| 第三章 氮化钽薄膜的制备及性能研究 | 第29-46页 |
| ·薄膜沉积设备与实验原料 | 第29页 |
| ·薄膜制备过程 | 第29-30页 |
| ·靶材清洁及基片清洗 | 第29-30页 |
| ·薄膜的制备 | 第30页 |
| ·实验研究结果与讨论 | 第30-44页 |
| ·氮分压 | 第30-35页 |
| ·工作气压 | 第35-39页 |
| ·沉积温度 | 第39-41页 |
| ·溅射功率 | 第41-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第四章 单元电阻红外场景产生器的制作 | 第46-62页 |
| ·红外辐射的理论基础 | 第46-50页 |
| ·热辐射原理 | 第46-48页 |
| ·红外图像产生机理 | 第48-49页 |
| ·电阻阵列加热方法 | 第49页 |
| ·电阻元的热计算 | 第49-50页 |
| ·器件的图形化方法 | 第50-54页 |
| ·光刻工艺 | 第50-52页 |
| ·剥离技术 | 第52-53页 |
| ·化学湿法刻蚀 | 第53-54页 |
| ·单元电阻红外场景产生器的制作 | 第54-59页 |
| ·单元电阻红外场景产生器结构设计 | 第54-55页 |
| ·单元电阻红外场景产生器的制作 | 第55-59页 |
| ·单元电阻红外场景产生器性能的测试 | 第59-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
