大口径衍射光学元件的离子束刻蚀及相关问题的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-20页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·大口径衍射光学元件的国内外研究现状 | 第13-16页 |
| ·衍射光学元件制作的工艺流程 | 第13-14页 |
| ·衍射光学元件的发展及应用 | 第14-15页 |
| ·大口径衍射光学元件的应用与国内外研究现状 | 第15-16页 |
| ·离子束刻蚀技术的国内外研究现状 | 第16-18页 |
| ·离子束刻蚀装置的发展及应用 | 第16-17页 |
| ·离子束技术工艺性能的提高 | 第17-18页 |
| ·选题意义和博士论文构成 | 第18-20页 |
| 第二章 大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的简介 | 第20-40页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验装置 | 第20-29页 |
| ·KZ-400 离子源 | 第21-24页 |
| ·KZ-400 束流密度的空间分布 | 第24-26页 |
| ·KZ-400 工作气体对束流密度的影响 | 第26-29页 |
| ·离子束刻蚀工艺基础 | 第29-34页 |
| ·离子束刻蚀的关键参数 | 第30-31页 |
| ·离子束刻蚀中遇到的问题及其解决方法 | 第31-34页 |
| ·大口径脉冲压缩光栅衍射效率的测量 | 第34-39页 |
| ·大口径脉冲压缩光栅衍射效率测量光路设计 | 第34-36页 |
| ·大口径脉冲压缩光栅衍射效率测量程序介绍 | 第36-39页 |
| ·本章小节 | 第39-40页 |
| 第三章 大口径衍射光学元件刻蚀均匀性的提高 | 第40-58页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·提高纵向束流密度分布均匀性 | 第40-55页 |
| ·束阑形状对束流密度分布的影响 | 第41-43页 |
| ·修正束阑形状提高纵向束流密度分布均匀性 | 第43-49页 |
| ·纵向束流密度均匀性的进一步提高 | 第49-52页 |
| ·组合石墨条束阑修正束流密度分布 | 第52-55页 |
| ·移动样品刻蚀位置提高刻蚀均匀性 | 第55-57页 |
| ·移动样品提高刻蚀深度均匀性原理分析 | 第55页 |
| ·离子束刻蚀均匀性的提高 | 第55-57页 |
| ·本章小节 | 第57-58页 |
| 第四章 多层介质膜光栅的离子束刻蚀 | 第58-83页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·多层介质膜光栅的离子束刻蚀 | 第59-74页 |
| ·多层介质膜光栅图形转移情况的理论研究 | 第59-62页 |
| ·多层介质膜光栅图形转移情况的实验研究 | 第62-72页 |
| ·其他基底样品离子束刻蚀过程中图形转移情况 | 第72-74页 |
| ·光栅光刻胶掩模的判断与修正 | 第74-79页 |
| ·光刻胶掩模到底情况的定性判断与修正 | 第74-76页 |
| ·光刻胶掩模高度的测量和占空比的定性判断 | 第76-77页 |
| ·光刻胶掩模均匀性判断和修正 | 第77-79页 |
| ·离子束刻蚀提高光栅衍射效率均匀性 | 第79-81页 |
| ·本章小节 | 第81-83页 |
| 第五章 论文的工作总结与展望 | 第83-85页 |
| ·论文的创新性工作 | 第83-84页 |
| ·工作的展望 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-93页 |
| 致谢 | 第93-95页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第95-96页 |
