| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 纳米材料与纳米技术简介 | 第12-19页 |
| 1.1.1 纳米材料的定义及分类 | 第12-17页 |
| 1.1.2 纳米材料的基本特性 | 第17-19页 |
| 1.2 金属硫化物低维纳米材料简介 | 第19-27页 |
| 1.2.1 金属硫化物的研究进展 | 第19-21页 |
| 1.2.2 金属硫化物的应用 | 第21-22页 |
| 1.2.3 金属硫化物低维纳米结构制备方法简介 | 第22-27页 |
| 1.3 本论文的研究目的和意义 | 第27-28页 |
| 1.4 本论文各部分主要内容 | 第28-29页 |
| 第二章 实验装置及测试方法 | 第29-39页 |
| 2.1 电弧放电原理及实验装置简介 | 第29-32页 |
| 2.2 样品制备过程介绍 | 第32-33页 |
| 2.3 测试仪器介绍 | 第33-34页 |
| 2.4 金刚石对顶砧高压实验技术 | 第34-36页 |
| 2.5 同步辐射X射线衍射实验装置 | 第36-39页 |
| 第三章 SnS、SnSe、SnSxSe1-x低维纳米结构的制备与表征 | 第39-63页 |
| 3.1 SnS纳米片的制备、表征及物性研究 | 第40-46页 |
| 3.1.1 SnS纳米片的X射线衍射分析 | 第40-41页 |
| 3.1.2 SnS纳米片的形貌及微观结构分析 | 第41-44页 |
| 3.1.3 SnS纳米片的生长机制分析 | 第44-45页 |
| 3.1.4 SnS纳米片的紫外可见漫反射光谱分析 | 第45-46页 |
| 3.2 SnS纳米颗粒的制备与表征 | 第46-49页 |
| 3.2.1 SnS纳米颗粒的X射线衍射分析 | 第46-48页 |
| 3.2.2 SnS纳米颗粒的形貌及元素分析 | 第48-49页 |
| 3.3 SnSe纳米片的制备、表征及物性研究 | 第49-54页 |
| 3.3.1 SnSe纳米片的X射线衍射分析 | 第49-50页 |
| 3.3.2 SnSe纳米片的形貌及微观结构分析 | 第50-53页 |
| 3.3.3 SnSe纳米片的生长机制分析 | 第53页 |
| 3.3.4 SnSe纳米片的紫外可见漫反射光谱分析 | 第53-54页 |
| 3.4 SnSe纳米颗粒的制备与表征 | 第54-57页 |
| 3.4.1 SnSe纳米颗粒的X射线衍射分析 | 第54-56页 |
| 3.4.2 SnSe纳米颗粒的形貌及元素分析 | 第56-57页 |
| 3.5 SnSxSe1-x纳米片和纳米颗粒的制备、表征及物性研究 | 第57-61页 |
| 3.5.1 SnSxSe1-x纳米片和纳米颗粒的X射线衍射分析 | 第57-58页 |
| 3.5.2 SnSxSe1-x纳米片的形貌及元素分析 | 第58-60页 |
| 3.5.3 SnSxSe1-x纳米片的紫外可见吸收光谱分析 | 第60-61页 |
| 3.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 SnS纳米片的高压结构相变研究 | 第63-81页 |
| 4.1 研究背景 | 第63-67页 |
| 4.2 高压实验方法 | 第67-68页 |
| 4.3 SnS纳米片高压同步辐射X射线衍射实验结果与分析 | 第68-77页 |
| 4.4 SnS纳米片高压拉曼散射实验结果与分析 | 第77-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 SnSe纳米片的高压结构相变研究 | 第81-97页 |
| 5.1 研究背景 | 第81-84页 |
| 5.2 高压实验方法 | 第84-85页 |
| 5.3 SnSe纳米片高压同步辐射X射线衍射实验结果与分析 | 第85-92页 |
| 5.4 SnSe纳米片高压拉曼散射实验结果与分析 | 第92-94页 |
| 5.5 SnSe纳米片的格林爱森参数计算 | 第94-96页 |
| 5.6 本章小结 | 第96-97页 |
| 第六章 结论与展望 | 第97-100页 |
| 参考文献 | 第100-114页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术成果 | 第114-116页 |
| 作者简介 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117页 |
