| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·氧化钛材料 | 第12-18页 |
| ·TiO_2材料的基本性质 | 第12-16页 |
| ·TiO_2材料的应用 | 第16-18页 |
| ·掺氮氧化钛薄膜的研究进展 | 第18-21页 |
| ·研究课题的选取 | 第21-23页 |
| ·论文的研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征 | 第24-36页 |
| ·薄膜的制备方法介绍 | 第24-27页 |
| ·磁控溅射法制备氮掺杂氧化钛薄膜的特点及原理 | 第27-31页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| ·溅射镀膜设备简介 | 第28-30页 |
| ·样品的制备 | 第30-31页 |
| ·薄膜的表征 | 第31-36页 |
| ·结构和成分分析 | 第31-33页 |
| ·表面形貌的观察(AFM) | 第33页 |
| ·光学性质的表征 | 第33-36页 |
| 第三章 TO_(2-x)N_x薄膜的结构和光学性能研究 | 第36-50页 |
| ·薄膜的晶体结构和表面分析 | 第36-40页 |
| ·X-射线衍射(XRD)分析 | 第36-37页 |
| ·原子力显微分析(AFM) | 第37-38页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第38-40页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第40-49页 |
| ·薄膜的透射光谱 | 第41-42页 |
| ·薄膜的光学带隙和本征吸收边(作图法) | 第42-43页 |
| ·薄膜的光致发光特性 | 第43-48页 |
| ·薄膜的折射率的测量 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 制备条件对薄膜结构和光学性能的影响 | 第50-75页 |
| ·氮氩流量比对薄膜性能的影响 | 第50-55页 |
| ·氮氩流量比对薄膜折射率的影响 | 第50-51页 |
| ·氮氩流量比对薄膜透射光谱的影响 | 第51-52页 |
| ·作图求解光学禁带宽度和本征吸收边 | 第52-54页 |
| ·氮氩流量比对薄膜吸收光谱的影响 | 第54-55页 |
| ·本节小结 | 第55页 |
| ·工作气压对薄膜性能的影响 | 第55-61页 |
| ·工作气压对TiO_(2-x)N_x薄膜荧光光谱的影响 | 第56-57页 |
| ·工作气压对TiO_(2-x)N_x薄膜透射光谱的影响 | 第57-58页 |
| ·工作气压对TiO_(2-x)N_x薄膜沉积速率的影响 | 第58-60页 |
| ·工作气压对TiO_(2-x)N_x薄膜表面形貌的影响 | 第60-61页 |
| ·本节小结 | 第61页 |
| ·衬底温度(基片温度)对薄膜性能的影响 | 第61-65页 |
| ·衬底温度对TiO_(2-x)N_x薄膜荧光光谱的影响 | 第62-63页 |
| ·衬底温度对TiO_(2-x)N_x薄膜透射光谱的影响 | 第63-64页 |
| ·衬底温度对TiO_(2-x)N_x薄膜晶体结构的影响 | 第64页 |
| ·本节小结 | 第64-65页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第65-68页 |
| ·溅射功率对TiO_(2-x)N_x薄膜荧光光谱的影响 | 第65-66页 |
| ·溅射功率对TiO_(2-x)N_x薄膜透射光谱的影响 | 第66-67页 |
| ·溅射功率对TiO_(2-x)N_x薄膜厚度的影响 | 第67-68页 |
| ·本节小结 | 第68页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第68-72页 |
| ·退火温度对TiO_(2-x)N_x薄膜荧光光谱的影响 | 第69-70页 |
| ·退火温度对TiO_(2-x)N_x薄膜透射光谱的影响 | 第70-71页 |
| ·退火温度对TiO_(2-x)N_x薄膜结构特性的影响 | 第71-72页 |
| ·本节小结 | 第72页 |
| ·本章小结 | 第72-75页 |
| 第五章 结论及展望 | 第75-78页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
