超声波精细雾化化学机械抛光硬脆材料去除机理研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 论文选题背景及意义 | 第8-10页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.1.2 研究背景 | 第8-10页 |
| 1.2 化学机械抛光材料去除机理的研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2.1 磨粒磨损机理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 原子/分子去除机理 | 第11页 |
| 1.2.3 化学作用机理 | 第11页 |
| 1.3 超声波精细雾化化学机械抛光方法 | 第11-12页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 试验仪器设备及材料 | 第13-20页 |
| 2.1 试验仪器设备 | 第13-18页 |
| 2.1.1 超声精细雾化CMP系统 | 第13-16页 |
| 2.1.2 扫描探针显微镜 | 第16-17页 |
| 2.1.3 精密电子天平 | 第17-18页 |
| 2.1.4 超声波清洗机 | 第18页 |
| 2.1.5 自动控温加热平台 | 第18页 |
| 2.2 试验试件和试剂 | 第18-20页 |
| 第三章 化学作用和机械作用的试验研究 | 第20-45页 |
| 3.1 单独的化学作用和机械作用试验研究 | 第20-21页 |
| 3.1.1 静化学腐蚀试验 | 第20页 |
| 3.1.2 单独的机械作用试验研究 | 第20-21页 |
| 3.2 抛光压力对材料去除的影响 | 第21-25页 |
| 3.2.1 试验设计 | 第21页 |
| 3.2.2 试验结果与分析 | 第21-25页 |
| 3.3 抛光盘转速对材料去除的影响 | 第25-29页 |
| 3.3.1 试验设计 | 第25页 |
| 3.3.2 试验结果与分析 | 第25-29页 |
| 3.4 雾液流量对材料去除的影响 | 第29-32页 |
| 3.4.1 试验设计 | 第29页 |
| 3.4.2 试验结果与分析 | 第29-32页 |
| 3.5 氧化剂质量分数对材料去除的影响 | 第32-36页 |
| 3.5.1 试验设计 | 第32-33页 |
| 3.5.2 试验结果与分析 | 第33-36页 |
| 3.6 机械化学共同作用机理初步研究 | 第36页 |
| 3.7 机械化学共同作用下的最优参数研究试验 | 第36-43页 |
| 3.7.1 试验设计 | 第37-39页 |
| 3.7.2 正交试验结果的矩阵法分析 | 第39-43页 |
| 3.8 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 磨粒运动轨迹的MATLAB仿真研究 | 第45-65页 |
| 4.1 磨粒特性 | 第45-46页 |
| 4.2 运动学模型建立 | 第46-49页 |
| 4.2.1 超声雾化抛光机运动形式 | 第46-48页 |
| 4.2.2 磨粒的运动方程建立 | 第48-49页 |
| 4.3 基于MATLAB的磨粒运动轨迹分析 | 第49-63页 |
| 4.3.1 单磨粒运动轨迹的分析 | 第49-59页 |
| 4.3.2 多磨粒运动轨迹的分析 | 第59-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 材料去除机理分析 | 第65-69页 |
| 5.1 机械化学共同作用的数学模型研究现状 | 第65-66页 |
| 5.2 模型的建立 | 第66-67页 |
| 5.2.1 单磨粒去除率 | 第66-67页 |
| 5.2.2 总去除率 | 第67页 |
| 5.3 模型分析 | 第67-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 6.1 结论 | 第69-70页 |
| 6.2 论文创新点 | 第70页 |
| 6.3 展望与不足 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 附录： 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76页 |
