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基于激光成像的六氟化硫泄漏监测系统--传感器信号调理及数据采集部分的研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-15页
    1.1 六氟化硫气体泄漏监测以及研究现状第11-13页
        1.1.1 六氟化硫气体特性简介第11页
        1.1.2 SF6 气体泄漏监测方法及研究现状第11-13页
    1.2 基于激光成像的六氟化硫气体泄漏检测方法第13页
    1.3 本文的主要工作和章节安排第13-15页
第二章 基于激光成像的六氟化硫泄漏检测系统设计方案第15-24页
    2.1 概述第15页
    2.2 基于激光成像的六氟化硫泄漏检测系统设计方案介绍第15-20页
        2.2.1 激光成像的原理第15-17页
        2.2.2 系统结构和功能第17-18页
        2.2.3 主要组成部件的介绍第18-20页
    2.3 SF6 气体特性及红外传感器选型第20-23页
        2.3.1 传感器选型第20-21页
        2.3.2 红外传感器第21-23页
    2.4 传感放大及信号采集部分的方案设计第23-24页
第三章 传感器信号调理第24-36页
    3.1 传感器及信号特性第24页
    3.2 信号调理电路第24-30页
        3.2.1 偏转法第25-27页
        3.2.2 零式法第27-30页
        3.2.3 两种测量方法实际的比较性能第30页
    3.3 VGA 电路设计第30-36页
        3.3.1 AD8337 的性能特点及工作原理第30-32页
        3.3.2 自动增益调节电路原理第32-33页
        3.3.3 实际设计以及实验结果第33-35页
        3.3.4 电路实际应用中的注意点第35-36页
第四章 信号采样及数据采集系统第36-59页
    4.1 概述第36页
    4.2 硬件系统框架设计第36-38页
        4.2.1 系统硬件结构第36-37页
        4.2.2 系统中器件选型分析第37-38页
    4.3 DSP 主控芯片第38-47页
        4.3.1 TMS320C6713 的中央处理单元第39-40页
        4.3.2 TMS320C6713 的二级内部存储器第40-41页
        4.3.3 TMS320C6713 的外部存储器接口(EMIF)第41-42页
        4.3.4 EDMA第42-43页
        4.3.5 HPI 口第43-44页
        4.3.6 TMS320C6713 的中断第44-45页
        4.3.7 流水线第45-47页
    4.4 外围电路主要芯片介绍及接口设计第47-51页
        4.4.1 高速采样电路接口设计第47-49页
        4.4.2 SDRAM 扩展第49-50页
        4.4.3 FLASHROM 扩展第50-51页
    4.5 可编辑逻辑器件CPLD第51-52页
    4.6 与USB 高速数据传输通道的接口第52-54页
    4.7 电路PCB 布局,走线和调试第54-59页
        4.7.1 PCB 布局第55页
        4.7.2 PCB 布线第55-56页
        4.7.3 电源系统第56-59页
第五章 软件设计及实验结果第59-70页
    5.1 概述第59页
    5.2 高速采样及数据采集软件的总体设计第59-60页
    5.3 DSP 软件设计与调试技术第60-64页
        5.3.1 C/C++语言实现第61-63页
        5.3.2 连接器命令文件(.cmd)的编写第63-64页
    5.4 系统图像采集流程介绍第64-66页
    5.5 实验结果及动态图像显示第66-70页
        5.5.1 实际采集的图像结果及VGA 电路的效果第66-68页
        5.5.2 动态图像显示及灵敏度测定第68-70页
第六章 结论与展望第70-72页
    6.1 结论第70页
    6.2 展望第70-72页
参考文献第72-74页
致谢第74-75页
攻读学位期间发表的学术论文第75页

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