| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 研究背景与计算方法 | 第10-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-18页 |
| 1.1.1 Ti-Si-N 中界面结构的研究背景 | 第10-12页 |
| 1.1.2 Ti-Si-N 中界面性能的研究背景 | 第12-14页 |
| 1.1.3 Ti-Si-N 中界面形成的研究背景 | 第14-18页 |
| 1.2 理论基础 | 第18-28页 |
| 1.2.1 第一性原理方法 | 第19页 |
| 1.2.2 Hartree-Fock 近似方程 | 第19-21页 |
| 1.2.3 密度泛函理论 | 第21-25页 |
| 1.2.4 VASP 计算细节 | 第25-28页 |
| 第2章 Ti-Si-N 类界面结构形式与性能 | 第28-53页 |
| 2.1 Ti-Si-N 类固溶结构形式与力学性能 | 第28-37页 |
| 2.1.1 Ti-Si-N 类固溶结构形式 | 第28-33页 |
| 2.1.2 Ti-Si-N 类固溶结构力学性能 | 第33-36页 |
| 2.1.3 小结 | 第36-37页 |
| 2.2 Ti-Si-N 纳米复合结构界面结构形式 | 第37-47页 |
| 2.2.1 Ti-Si-N 类界面结构形式 | 第37-43页 |
| 2.2.2 Ti-Si-N 界面结构力学性能 | 第43-44页 |
| 2.2.3 Ti-Si-N 界面结构电子结构 | 第44-47页 |
| 2.2.4 小结 | 第47页 |
| 2.3 Al（001）/TiN 界面结构与界面扩散行为 | 第47-53页 |
| 2.3.1 Al（001）/TiN 界面结构 | 第47-50页 |
| 2.3.2 Al（001）/TiN 界面扩散行为 | 第50-52页 |
| 2.3.3 小结 | 第52-53页 |
| 第3章 Ti-Si-N 界面形成过程 | 第53-68页 |
| 3.1 Ti-Si-N 岛在 TiN（001）表面岛构形演变 | 第53-58页 |
| 3.1.1 Ti-Si-N 岛构形在 TiN（001）表面吸附作用 | 第53-55页 |
| 3.1.2 Ti-Si-N 岛构形在 TiN（001）表面演变过程 | 第55-58页 |
| 3.2 Ti、Si、N 在 TiN（111）表面迁移及岛构形演变 | 第58-66页 |
| 3.2.1 Ti、Si、N 单粒子在 TiN（111）表面迁移 | 第58-64页 |
| 3.2.2 Ti-Si-N 岛在 TiN（111）表面岛构形演变 | 第64-66页 |
| 3.3 小结 | 第66-68页 |
| 第4章 结论与展望 | 第68-72页 |
| 4.1 主要结论 | 第68-70页 |
| 4.2 本文创新点 | 第70页 |
| 4.3 展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 附录 | 第79-80页 |
| 索引 | 第80-86页 |
| 在学研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
