| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 研究状况 | 第12-24页 |
| 1.2.1 激光辐照半导体材料研究进展 | 第12-14页 |
| 1.2.2 激光辐照半导体材料温度场的解析、数值和实验研究 | 第14-16页 |
| 1.2.3 准分子激光在微加工领域的应用 | 第16-18页 |
| 1.2.4 SOI纳米光波导粗糙侧壁光滑化的研究状况 | 第18-24页 |
| 1.3 本文主要工作 | 第24-26页 |
| 2 SOI材料特性及与激光相互作用热效应基本理论 | 第26-34页 |
| 2.1 SOI材料在硅基光电子学中的应用 | 第26页 |
| 2.2 SOI材料物理性质及与激光的相互作用基本机理 | 第26-30页 |
| 2.2.1 SOI材料物理性质 | 第26-28页 |
| 2.2.2 SOI材料对激光的吸收机制 | 第28-30页 |
| 2.3 248nm激光辐照SOI温升模型及有限元求解 | 第30-33页 |
| 2.3.1 激光辐照与材料光学参数的关系 | 第30页 |
| 2.3.2 激光辐照SOI温升模型 | 第30-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 KrF准分子激光辐照SOI材料热效应 | 第34-43页 |
| 3.1 数值计算模型 | 第34-37页 |
| 3.2 材料物理参数 | 第37-38页 |
| 3.3 计算结果分析和讨论 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 4 SOI纳米光波导粗糙侧壁的激光熔凝光整加工数值分析 | 第43-53页 |
| 4.1 数值计算模型 | 第43-46页 |
| 4.2 激光熔凝波导侧壁热响应规律 | 第46-47页 |
| 4.3 工艺参数对熔池温度场的影响 | 第47-51页 |
| 4.3.1 不同平均能量密度下的熔池温度场 | 第47-50页 |
| 4.3.2 不同激光入射角度下的熔池温度场 | 第50-51页 |
| 4.4 分析与讨论 | 第51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 5 总结和展望 | 第53-55页 |
| 5.1 总结 | 第53页 |
| 5.2 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
