| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 纳米材料简介 | 第10页 |
| 1.2 硒化锌材料 | 第10-11页 |
| 1.3 制备纳米薄膜的常用方法 | 第11-12页 |
| 1.4 制备纳米柱的常用手段 | 第12-14页 |
| 1.5 国内外对硒化锌纳米薄膜和纳米柱的研究进展 | 第14-17页 |
| 1.6 选题依据和本课题主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 硒化锌纳米薄膜的制备及光学特性研究 | 第19-34页 |
| 引言 | 第19页 |
| 2.1 硒化锌薄膜的制备 | 第19-22页 |
| 2.1.1 电子束蒸发沉积系统简介 | 第19-20页 |
| 2.1.2 清洗基片及电子束蒸镀硒化锌薄膜的实验流程 | 第20-22页 |
| 2.2 蒸发镀膜的过程机理 | 第22页 |
| 2.3 硒化锌薄膜的测试表征 | 第22-28页 |
| 2.3.1 硒化锌薄膜厚度的测量 | 第23-24页 |
| 2.3.2 X 射线衍射仪对硒化锌薄膜的分析 | 第24-25页 |
| 2.3.3 原子力显微镜对硒化锌薄膜的测试 | 第25-27页 |
| 2.3.4 扫描电镜对硒化锌薄膜的测试 | 第27-28页 |
| 2.4 硒化锌薄膜的光学特性 | 第28-33页 |
| 2.4.1 硒化锌薄膜的透射吸收谱 | 第28-30页 |
| 2.4.2 ZnSe 薄膜的光致发光谱 | 第30-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 硒化锌纳米柱的制备及光学特性研究 | 第34-50页 |
| 3.1 掠角沉积方法 | 第34-37页 |
| 3.1.1 掠角沉积的简单介绍 | 第34-35页 |
| 3.1.2 GLAD 过程机理分析 | 第35-37页 |
| 3.2 硒化锌纳米柱的制备和电镜表征 | 第37-39页 |
| 3.3 不同生长条件和光栅基底对硒化锌纳米柱结构的影响 | 第39-45页 |
| 3.3.1 三种生长条件下的硒化锌纳米柱结构 | 第39-40页 |
| 3.3.2 光栅基底的制备及硒化锌周期纳米柱阵列 | 第40-45页 |
| 3.4 硒化锌纳米柱的 XRD 及拉曼光谱表征 | 第45-47页 |
| 3.5 硒化锌纳米柱的光学特性 | 第47-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 掺铬硒化锌薄膜的制备与发光特性 | 第50-55页 |
| 4.1 掺铬硒化锌薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 4.2 掺铬硒化锌薄膜的 XRD 测试 | 第51-52页 |
| 4.3 掺铬硒化锌薄膜的红外吸收和光致发光 | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62页 |