| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 自旋电子学 | 第9-11页 |
| 1.2.1 自旋电子学的发展 | 第9-10页 |
| 1.2.2 自旋电子学的应用 | 第10-11页 |
| 1.3 稀磁半导体概述 | 第11-15页 |
| 1.3.1 稀磁半导体的概念 | 第11-12页 |
| 1.3.2 稀磁半导体的发展历程 | 第12页 |
| 1.3.3 稀磁半导体的磁性起源 | 第12-15页 |
| 1.4 SnO_2基稀磁半导体概述 | 第15-22页 |
| 1.4.1 SnO_2的结构与性能 | 第15-16页 |
| 1.4.2 SnO_2基稀磁半导体的研究现状 | 第16-22页 |
| 1.4.3 SnO_2基稀磁半导体目前存在的问题 | 第22页 |
| 1.5 本课题的研究思路与内容 | 第22-24页 |
| 1.5.1 研究思路 | 第22-23页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第24-33页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 磁控溅射 | 第24-25页 |
| 2.2.2 实验设备与材料 | 第25页 |
| 2.2.3 实验流程 | 第25-26页 |
| 2.3 薄膜性能的表征 | 第26-32页 |
| 2.3.1 台阶仪（step profiler） | 第26-27页 |
| 2.3.2 X射线衍射（XRD） | 第27-28页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-29页 |
| 2.3.4 X射线吸收精细结构谱（XAFS） | 第29-30页 |
| 2.3.5 电输运性能测试 | 第30-31页 |
| 2.3.6 磁性能测试 | 第31-32页 |
| 2.3.7 光学性能测试 | 第32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 Fe掺杂Sn O_2基稀磁半导体薄膜研究 | 第33-46页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第33-44页 |
| 3.2.1 Fe掺杂SnO_2薄膜的结构与物相 | 第33-34页 |
| 3.2.2 Fe掺杂SnO_2薄膜的价态 | 第34-36页 |
| 3.2.3 Fe掺杂SnO_2薄膜的局域结构 | 第36-40页 |
| 3.2.4 Fe掺杂SnO_2薄膜的光致发光光谱 | 第40-41页 |
| 3.2.5 Fe掺杂SnO_2薄膜的紫外-可见光光谱 | 第41-42页 |
| 3.2.6 Fe掺杂SnO_2薄膜的电学性能 | 第42-43页 |
| 3.2.7 Fe掺杂SnO_2薄膜的磁性 | 第43-44页 |
| 3.3 Fe掺杂SnO_2薄膜的磁性起源 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 N掺杂SnO_2基稀磁半导体薄膜研究 | 第46-59页 |
| 4.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第47-58页 |
| 4.2.1 N掺杂SnO_2薄膜的结构与物相 | 第47-48页 |
| 4.2.2 N掺杂SnO_2薄膜的价态 | 第48-51页 |
| 4.2.3 N掺杂SnO_2薄膜的光致发光光谱 | 第51-52页 |
| 4.2.4 N掺杂SnO_2薄膜的紫外-可见光光谱 | 第52-54页 |
| 4.2.5 N掺杂SnO_2薄膜的电学性能 | 第54-57页 |
| 4.2.6 N掺杂SnO_2薄膜的磁性 | 第57-58页 |
| 4.3 N掺杂SnO_2薄膜的磁性起源 | 第58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |