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纳米数字电路软错误率分析关键技术研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第15-23页
    1.1 课题研究背景及意义第15-18页
    1.2 研究的对象第18-19页
    1.3 国内外研究现状第19-20页
    1.4 本文研究工作第20-22页
        1.4.1 研究内容第20-21页
        1.4.2 主要创新点第21-22页
    1.5 论文组织结构第22-23页
第二章 软错误理论基础第23-33页
    2.1 软错误产生机理第23-25页
        2.1.1 空间辐射环境第23-24页
        2.1.2 软错误形成机理第24-25页
    2.2 软错误分类第25-27页
        2.2.1 单粒子效应第25-26页
        2.2.2 单粒子多节点效应第26-27页
    2.3 软错误传播与计算第27-29页
        2.3.1 软错误三种屏蔽效应第27页
        2.3.2 电路软错误第27-29页
    2.4 集成电路软错误率评估方法第29-31页
        2.4.1 存储电路软错误率第29页
        2.4.2 逻辑电路软错误率第29-30页
        2.4.3 芯片软错误率第30-31页
    2.5 系统的开发环境与技术细节第31-32页
        2.5.1 Visual C++6.0概述第31页
        2.5.2 STL概述第31-32页
    2.6 本章小结第32-33页
第三章 考虑单粒子多瞬态的电路软错误率计算模型第33-44页
    3.1 瞬态脉冲产生模型第33-34页
        3.1.1 单指数模型第33页
        3.1.2 双指数模型第33-34页
        3.1.3 UGC模型第34页
    3.2 故障概率模型第34-36页
        3.2.1 信号概率第34-35页
        3.2.2 四值逻辑第35-36页
    3.3 单粒子多瞬态脉冲屏蔽模型第36-37页
        3.3.1 逻辑屏蔽模型第36页
        3.3.2 电气屏蔽模型第36-37页
        3.3.3 时窗屏蔽模型第37页
    3.4 单粒子多瞬态脉冲复合模型第37-41页
        3.4.1 SEMT故障位置对的提取第37-38页
        3.4.2 SEMT故障脉冲的注入第38-39页
        3.4.3 SEMT故障脉冲的复合第39-41页
    3.5 基于概率的电路软错误率计算第41-43页
        3.5.1 电路失效概率计算第41-42页
        3.5.2 电路总体软错误率计算第42-43页
    3.6 本章小结第43-44页
第四章 考虑单粒子多瞬态脉冲的电路软错误率评估实现第44-54页
    4.1 考虑SEMT的电路软错误率评估总体框架第44-45页
    4.2 考虑SEMT的电路软错误率评估流程第45-46页
    4.3 电路解析与分级第46-47页
    4.4 SEMT故障脉冲的传播第47-48页
        4.4.1 电路状态更新第47页
        4.4.2 数据通路提取第47-48页
    4.5 考虑SEMT的电路软错误率评估第48-50页
    4.6 实验结果及分析第50-53页
        4.6.1 实验环境第50页
        4.6.2 电路失效概率评估结果第50-52页
        4.6.3 电路软错误率评估结果第52-53页
    4.7 本章小结第53-54页
第五章 总结与展望第54-56页
    5.1 本文总结第54页
    5.2 未来工作展望第54-56页
参考文献第56-62页
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况第62页

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