平行多注电子枪的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 微波电真空器件的发展现状和方向 | 第9-11页 |
| 1.2 多电子注的发展 | 第11-14页 |
| 1.3 电子光学系统的相关知识 | 第14-16页 |
| 1.4 平行多电子注的研究背景 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的结构安排 | 第17-19页 |
| 第二章 强流电子枪基本理论 | 第19-37页 |
| 2.1 强流电子光学和弱流电子光学 | 第19-21页 |
| 2.2 空间电荷效应 | 第21-24页 |
| 2.3 电子光学的基本理论 | 第24-33页 |
| 2.3.1 电子光学的基本方程 | 第24-27页 |
| 2.3.2 电子光学系统中的电磁场 | 第27-30页 |
| 2.3.3 电子光学系统中电子的运动轨迹 | 第30-33页 |
| 2.4 强流电子枪 | 第33-36页 |
| 2.4.1 强流电子枪的概述 | 第33-35页 |
| 2.4.2 强流电子枪的主要参量 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 平行多注电子枪的设计与仿真 | 第37-46页 |
| 3.1 CST粒子模拟软件介绍 | 第37页 |
| 3.2 平行多注电子枪的结构设计 | 第37-43页 |
| 3.2.1 电子枪的参数设置 | 第37-38页 |
| 3.2.2 平行多注电子枪模型建立 | 第38-43页 |
| 3.3 矩形发射面电子枪的仿真 | 第43-45页 |
| 3.4 总结 | 第45-46页 |
| 第四章 平行多电子注聚焦磁场的设计与仿真 | 第46-65页 |
| 4.1 平行电子注的聚焦磁场 | 第46-64页 |
| 4.1.1 均匀聚焦磁场的设计 | 第47-54页 |
| 4.1.2 PCM聚焦磁场的设计 | 第54-62页 |
| 4.1.3 wiggler聚焦磁场的设计 | 第62-64页 |
| 4.2 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
