一种新型杯状纵磁真空灭弧室设计及电磁场仿真
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10-13页 |
| ·真空断路器国内外发展历史和现状 | 第10-12页 |
| ·本课题研究背景 | 第12-13页 |
| ·真空灭弧室基本结构及工作原理 | 第13-15页 |
| ·课题来源及本文研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 磁场控制技术在真空灭弧室中的应用 | 第16-28页 |
| ·真空电弧现象及其形态 | 第16-20页 |
| ·真空电弧的阴极现象和阳极现象 | 第16-17页 |
| ·真空电弧的燃烧过程 | 第17-19页 |
| ·真空电弧的形态 | 第19页 |
| ·弧后介质的恢复 | 第19-20页 |
| ·真空灭弧室触头结构 | 第20-23页 |
| ·圆柱状触头 | 第20-21页 |
| ·横向磁场触头 | 第21-22页 |
| ·纵向磁场触头 | 第22-23页 |
| ·磁场对真空电弧的影响 | 第23-27页 |
| ·横向磁场对真空电弧的影响 | 第23-24页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的影响 | 第24-27页 |
| 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 真空灭弧室结构设计 | 第28-37页 |
| ·绝缘外壳设计 | 第28-29页 |
| ·屏蔽罩设计 | 第29-31页 |
| ·触头结构设计及材料选择 | 第31-35页 |
| ·触头结构设计 | 第32-34页 |
| ·触头材料选择 | 第34-35页 |
| ·波纹管设计 | 第35页 |
| ·导电系统设计 | 第35-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 真空灭弧室电场计算 | 第37-45页 |
| ·真空灭弧室轴对称模型 | 第37-38页 |
| ·电场数值计算数学模型及边界条件的建立 | 第38-39页 |
| ·真空灭弧室内部电位分布 | 第39-40页 |
| ·真空灭弧室电场分布 | 第40-44页 |
| ·真空灭弧室整体电场分布 | 第40-41页 |
| ·触头表面电场分布 | 第41-43页 |
| ·主屏蔽罩内表面电场分布 | 第43-44页 |
| 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 真空灭弧室触头磁场仿真与分析 | 第45-61页 |
| ·电磁场基本理论 | 第45-46页 |
| ·触头模型的建立 | 第46-48页 |
| ·无铁芯结构与有铁芯结构仿真结果与对比分析 | 第48-51页 |
| ·电流峰值时触头间隙中心平面纵向磁场分布 | 第48-49页 |
| ·电流过零时触头间隙中心平面纵向磁场分布 | 第49-51页 |
| ·不同铁芯个数对磁场的影响 | 第51-54页 |
| ·电流峰值时的影响 | 第51-52页 |
| ·电流过零时的影响 | 第52-53页 |
| ·柱状铁芯结构与无铁芯结构磁场滞后时间分布 | 第53-54页 |
| ·环状铁芯结构与柱状铁芯结构仿真结果与对比分析 | 第54-60页 |
| ·电流峰值时纵向磁场分布 | 第54-57页 |
| ·电流过零时纵向磁场分布 | 第57-59页 |
| ·环状铁芯结构与柱状铁芯结构磁场滞后时间分布 | 第59-60页 |
| 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 附录A 攻读硕士期间参与的项目 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
