40.5kV真空灭弧室电场优化及磁场分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·真空灭弧室的发展历史 | 第10页 |
| ·真空灭弧室发展现状及存在的问题 | 第10-12页 |
| ·发展现状 | 第10-11页 |
| ·真空灭弧室待解决的问题 | 第11-12页 |
| ·真空灭弧室的电磁场研究及发展趋势 | 第12-14页 |
| ·有限元法对电磁场的研究 | 第12-13页 |
| ·真空灭弧室的发展趋势 | 第13-14页 |
| ·有限元分析与电磁场数值分析基础 | 第14-16页 |
| ·有限元分析 | 第14页 |
| ·电磁场的数值分析基础 | 第14-16页 |
| ·本文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 真空灭弧室结构与绝缘击穿 | 第18-30页 |
| ·真空灭弧室基本结构 | 第18-25页 |
| ·真空灭弧室结构 | 第18-19页 |
| ·气密与绝缘系统 | 第19-20页 |
| ·真空灭弧室的导电系统 | 第20-22页 |
| ·真空灭弧室的屏蔽罩结构 | 第22-23页 |
| ·波纹管的作用 | 第23-25页 |
| ·真空灭弧室的绝缘特性 | 第25-26页 |
| ·真空间隙的电击穿 | 第25-26页 |
| ·真空击穿假说 | 第26页 |
| ·导致真空击穿的因素 | 第26-29页 |
| ·击穿电压与触头间隙之间的关系 | 第26-27页 |
| ·击穿电压与真空度的关系 | 第27-28页 |
| ·击穿电压与触头材料的关系 | 第28-29页 |
| ·击穿电压与触头表面状况的关系 | 第29页 |
| 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 真空灭弧室电场数值分析及有效面积研究 | 第30-41页 |
| ·40.5kV真空灭弧室的轴对称模型 | 第30-31页 |
| ·40.5kV真空灭弧室电场和电位分布 | 第31-35页 |
| ·X-型主屏蔽罩结构的电场和电位分布 | 第31-33页 |
| ·Y-型主屏蔽罩结构的电场和电位分布 | 第33-34页 |
| ·主屏蔽罩内表面的电场分布曲线 | 第34-35页 |
| ·真空灭弧室触头有效面积的研究 | 第35-40页 |
| ·有效面积的定义 | 第35-36页 |
| ·有效面积的计算方法 | 第36-37页 |
| ·主屏蔽罩结构对触头有效面积的影响 | 第37-38页 |
| ·主屏蔽罩半径对有效面积的影响 | 第38-39页 |
| ·触头开距对有效面积的影响 | 第39-40页 |
| 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 真空灭弧室电场优化分析 | 第41-48页 |
| ·ANSYS软件的电场优化设计 | 第41-43页 |
| ·40.5kV真空灭弧室数学优化模型的建立 | 第43-44页 |
| ·40.5k V 真空灭弧室优化分析 | 第44-46页 |
| 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 杯状纵磁触头结构磁场瞬态分析 | 第48-56页 |
| ·磁场对电弧形态的控制 | 第48-49页 |
| ·真空电弧形态 | 第48页 |
| ·磁场对电弧的作用 | 第48-49页 |
| ·40.5kV杯状纵磁触头模型的建立 | 第49-50页 |
| ·三维纵磁瞬态计算结果分析 | 第50-55页 |
| ·电流峰值时触头片表面磁场三维分布 | 第50-51页 |
| ·电流过零时触头片表面磁场三维分布 | 第51-53页 |
| ·纵向磁场在电弧中心平面处的三维分布 | 第53-54页 |
| ·纵向磁场的滞后时间 | 第54-55页 |
| 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 附录A 攻读硕士期间参与的科研项目 | 第61-62页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间发表的学术论文及专利 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
