首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文--化合物半导体论文

金红石相TiO2单晶缺陷类型和室温铁磁性起源的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-10页
1 绪论第10-24页
   ·引言第10页
   ·稀磁半导体材料第10-16页
     ·物理特性第11-13页
       ·磁学性质第11-12页
       ·光学性质第12页
       ·磁输运特性第12-13页
     ·应用前景第13-14页
     ·稀磁半导体中(铁)磁性起源的理论模型第14-16页
       ·直接交换和超交换作用第14页
       ·载体介导交换作用第14-15页
       ·束缚磁极化子第15-16页
   ·TiO_2铁磁性起源的研究进展第16-22页
     ·TiO_2的晶体结构第16-20页
       ·分类及性质第16-17页
       ·Castep模块计算结果第17-20页
     ·TiO_2铁磁性起源第20-21页
     ·小结第21-22页
   ·需进一步解决的问题第22页
   ·本论文的研究思路和结构安排第22-24页
2 实验方法和设备第24-41页
   ·正电子谱学及测量技术第24-34页
     ·正电子谱学第24-25页
     ·正电子谱学测量技术第25-34页
       ·正电子湮没寿命谱第25-28页
       ·多普勒展宽谱第28-30页
       ·符合多普勒展宽能谱第30-33页
       ·慢正电子束流技术第33-34页
   ·超导量子干涉仪第34-35页
   ·X射线分析技术第35-39页
     ·X射线衍射第35-36页
     ·扫描电子显微镜第36-37页
     ·X射线光电子谱第37-39页
   ·同步辐射光源第39-41页
     ·北京同步辐射装置第39页
     ·X射线吸收精细结构谱第39-41页
3 热处理金红石TiO_2单晶的铁磁性起源第41-54页
   ·引言第41页
   ·真空高温热处理第41-43页
   ·缺陷类型和磁学性能测试第43-53页
     ·缺陷类型第43-50页
       ·晶体缺陷第43-44页
       ·X射线衍射谱测试结果第44-45页
       ·X射线吸收精细结构测试结果第45-47页
       ·正电子涯没寿命谱测试结果第47-50页
     ·磁学性能测试第50-53页
   ·小结第53-54页
4 N离子掺杂金红石TiO_2单晶的铁磁性起源第54-67页
   ·引言第54页
   ·N离子注入金红石TiO_2单晶的SRIM模拟计算第54-56页
     ·SRIM程序简介第54页
     ·SRIM计算结果第54-56页
   ·缺陷类型和磁学性能测试第56-66页
     ·缺陷类型第56-64页
       ·X射线衍射谱测试结果第56-57页
       ·扫描电子显微镜测试结果第57-58页
       ·X射线光电子谱测试结果第58-63页
       ·慢正电子束流测试结果第63-64页
     ·磁学性能测试第64-66页
   ·小结第66-67页
5 总结和展望第67-68页
   ·主要结论第67页
   ·工作展望第67-68页
参考文献第68-73页
个人简历第73页
在学期间发表的学术论文与研究成果第73-74页
致谢第74页

论文共74页,点击 下载论文
上一篇:制备条件对氮化镓/硅纳米孔柱阵列电致发光特性的调制
下一篇:微波干燥关键技术研究