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用于超大规模集成电路的多栅MOSFET研究

中文摘要第1-5页
Abstract第5-7页
1 引言第7-13页
   ·多栅MOSFET研究的意义和对象第7-11页
   ·研究的方法第11-12页
   ·论文的组织结构第12-13页
2 围栅MOSFET研究的理论基础第13-24页
   ·关于半导体器件中的泊松方程的使用第14-16页
     ·泊松方程从直角坐标到柱坐标的变换第14-16页
   ·围栅MOSFET沟道电势模型第16-17页
   ·D.Jimenez的长沟道围栅MOSFET电流模型第17-22页
   ·围栅MOSFET基于沟道电势模型的一些物理关系第22-23页
   ·本章小结第23-24页
3 围栅MOSFET的统一的载流子输运模型第24-47页
   ·载流子输运理论第24-28页
   ·反射系数r(BACKSCATTERING COEFFICIENT)第28-30页
   ·围栅MOSFET非简并态的源漏电流模型第30-31页
   ·围栅MOSFET简并态的源漏电流模型第31-35页
     ·载流子流量方程的建立第31-32页
     ·径向和角向的量子化的能量本征值第32-33页
     ·非简并态源漏电流模型的建立第33-35页
   ·模型结果与其他文献或仿真结果对比第35-42页
     ·与Jing Wang文献[19]的对比第36-37页
     ·与M.Lenzi文献[20]的对比第37-40页
     ·与Jimenez文献[6]的比较第40-42页
     ·本节小结第42页
   ·固定电流法研究阈值电压和DIBL效应第42-45页
   ·本章小结第45-47页
4 围栅MOSFET的亚阈值摆幅和闽值电压解析模型第47-61页
   ·沟道电势的解析模型第47-48页
   ·叠加法求解二维泊松方程第48-52页
   ·亚阈值摆幅模型第52-54页
   ·亚阈值区电流模型第54-56页
   ·阈值电压模型第56-58页
   ·漏致势垒降低效应(Drain Induced Barrier Lowering Effect)第58-59页
   ·本章小结第59-61页
5 双栅MOSFET的沟道电势和亚阈值摆幅解析模型第61-73页
   ·沟道电势解析模型第62-64页
   ·亚阈值摆幅第64-70页
   ·结果和讨论第70-72页
   ·本章小结第72-73页
6 总结第73-76页
   ·论文主要内容第73-74页
   ·论文的创新点第74页
   ·下一步工作展望第74-76页
参考文献第76-80页
攻读硕士学位期间发表或录用论文一览第80-81页
后记第81-82页

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