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模板及沉积在模板上的低维SiC及SiC:Tb材料的研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第9-25页
   ·SiC材料第9-15页
     ·SiC材料的基本性质第9-12页
     ·SiC器件和材料的研究状况第12-15页
       ·器件方面第12页
       ·材料的制备第12-15页
    1. 体单晶材料的生长第12-13页
    2. SiC薄膜材料第13-14页
    3. 烧铸的SiC陶瓷材料第14页
    4. 低维SiC材料第14-15页
   ·纳米材料第15-20页
     ·纳米材料研究进展第15-16页
     ·纳米材料的制备方法第16-20页
       ·固相合成纳米材料第16页
       ·液相合成纳米材料第16-18页
         ·溶胶-凝胶法第17页
         ·热解法第17-18页
       ·气相合成纳米材料第18页
       ·模板法合成纳米材料第18-20页
   ·本论文研究思路第20-21页
 参考文献第21-25页
第二章 基本分析测试方法第25-34页
   ·X射线衍射(XRD)第25页
   ·原子力显微镜(AFM)第25-27页
   ·扫面电子显微镜(SEM)第27-28页
   ·傅立叶红外光谱(FTIR)第28-29页
   ·拉曼散射(Raman)光谱第29-30页
   ·光致发光(PL)第30-31页
   ·光致发光激发光谱(PLE)第31-34页
第三章 多孔硅衬底的制备以及用射频溅射法沉积稀土掺杂 SiC的研究第34-65页
 引言第34页
   ·多孔硅概述第34-40页
     ·多孔硅的历史第34-35页
     ·多孔硅的制备方法第35-36页
       ·阳极电化学腐蚀法第35页
       ·光辐照辅助化学腐蚀法第35页
       ·化学腐蚀法第35-36页
       ·火花腐蚀技术第36页
       ·水热腐蚀法第36页
     ·多孔硅的后处理方法第36-37页
     ·多孔硅发光第37-38页
       ·量子限制模型第37页
       ·氢化非晶硅及硅衍生物发光模型第37-38页
       ·表面态模型第38页
       ·缺陷模型第38页
     ·阳极电化学反应基本原理第38-40页
   ·射频溅射第40-42页
   ·实验过程和表征方法第42-43页
     ·多孔硅的制备第42页
     ·射频溅射SiC薄膜及掺杂稀土的SiC薄膜第42-43页
     ·实验表征方法第43页
   ·结果与讨论第43-61页
     ·PS形貌,微结构分析第43-46页
     ·PS上沉积 SiC薄膜的结构和发光性质研究第46-61页
       ·衬底加热及退火对 SiC: Tb结构和发光的影响第47-58页
       ·退火以及 PS衬底对 SiC: Tb薄膜晶化的影响第58-61页
 本章小结第61-62页
 参考文献第62-65页
第四章 阳极氧化铝模板的制备和性质研究第65-95页
 引言第65页
   ·AAO模板概述第65-72页
     ·AAO模板的概念第65-66页
     ·历史概述第66-67页
     ·阳极氧化产物第67-68页
     ·形成机理第68-71页
     ·制备方法第71-72页
     ·AAO模板的应用第72页
   ·实验过程及表征方法第72-76页
   ·结果与讨论第76-91页
  1 影响AAO模板有序性因素第76-78页
  2 AAO及通孔 AAO的结构和性质第78-81页
  3 AAO模板的光致发光第81-91页
 本章小结第91-92页
 参考文献第92-95页
第五章 在 AAO模板上制备低维 SiC材料及其性质研究第95-104页
 引言第95页
   ·实验第95-96页
   ·结果与讨论第96-103页
     ·非通孔 AAO上形成的低维SiC材料的结构和 PL性质第96-100页
     ·通孔 AAO上形成的低维 SiC材料的结构第100-103页
 本章小结第103页
 参考文献第103-104页
第六章 总结与展望第104-106页
   ·主要结论第104-105页
   ·展望第105-106页
研究生阶段发表论文第106-107页
致谢第107页

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