| 第一章 绪论 | 第1-14页 |
| 1．1 引言 | 第9-10页 |
| 1．2 氧化物半导体薄膜的气敏机理 | 第10-12页 |
| 1．3 氧化物半导体气敏材料的研究进展 | 第12-14页 |
| 第二章 二氧化锡薄膜的其他特性及应用 | 第14-17页 |
| 2．1 引言 | 第14页 |
| 2．2 湿敏传感器 | 第14-15页 |
| 2．3 太阳能电池 | 第15-16页 |
| 2．4 光电子器件 | 第16页 |
| 2．5 保护层 | 第16页 |
| 2．6 薄膜电阻器 | 第16-17页 |
| 第三章 二氧化锡薄膜制备方法 | 第17-22页 |
| 3．1 引言 | 第17页 |
| 3．2 磁控溅射 | 第17-18页 |
| 3．3 化学气相沉积(CVD) | 第18-20页 |
| 3．4 喷涂热解(SPRAY PYROLYSIS) | 第20页 |
| 3．5 蒸发工艺 | 第20-21页 |
| 3．6 溶胶凝胶(SOL-GEL) | 第21-22页 |
| 第四章 溶胶凝胶成膜原理与工艺 | 第22-31页 |
| 4．1 引言 | 第22页 |
| 4．2 溶胶凝胶制备薄膜的原理 | 第22-24页 |
| 4．3 溶胶凝胶制备二氧化锡及合金氧化物薄膜的工艺 | 第24-25页 |
| 4．3．1 溶胶制备 | 第24页 |
| 4．3．2 工艺流程 | 第24-25页 |
| 4．4 溶胶-凝胶涂层技术 | 第25-30页 |
| 4．4．1 旋镀法 | 第25-27页 |
| 4．4．2 喷雾涂层技术 | 第27页 |
| 4．4．3 简单涂刷 | 第27-28页 |
| 4．4．4 浸渍-提拉法 | 第28-30页 |
| 4．5 薄膜的热处理 | 第30-31页 |
| 第五章 二氧化锡气敏传感器 | 第31-38页 |
| 5．1 实验设备(见图4-7) | 第31页 |
| 5．2 实验原料 | 第31页 |
| 5．3 二氧化锡气敏膜的制作 | 第31-33页 |
| 5．4 二氧化锡薄膜气敏特性的测试 | 第33-34页 |
| 5．5 二氧化锡薄膜气敏传感器的结果与讨论 | 第34-38页 |
| 5．5．1 SnO_2薄膜电阻-温度曲线 | 第34-35页 |
| 5．5．2 分子轨道计算 | 第35-38页 |
| 第六章 掺铟二氧化锡薄膜气敏传感器阵列 | 第38-42页 |
| 6．1 二氧化锡薄膜气敏传感器阵列的气敏特性分析 | 第38页 |
| 6．2 二氧化锡薄膜气敏传感器阵列的制作 | 第38-39页 |
| 6．2．1 实验设备(见图4-7) | 第38页 |
| 6．2．2 实验原料 | 第38页 |
| 6．2．3 实验主要步骤 | 第38-39页 |
| 6．3 二氧化锡薄膜气敏传感器阵列的结果与讨论 | 第39-42页 |
| 6．3．1 SnO_2薄膜气敏传感器阵列的霍尔效应测试 | 第39-40页 |
| 6．3．2 SnO_2薄膜气敏传感器阵列的气敏效应测试 | 第40-42页 |
| 第七章 纳米氧化锌气敏传感器 | 第42-58页 |
| 7．1 引言 | 第42页 |
| 7．2 氧化锌纳米薄膜的制备 | 第42-44页 |
| 7．2．1 双氧水氧化法制备纳米ZnO | 第42-43页 |
| 7．2．2 喷雾热解法制备纳米ZnO薄膜 | 第43-44页 |
| 7．3 纳米氧化锌薄膜的表征 | 第44-46页 |
| 7．3．1 XRD对纳米ZnO薄膜的表征 | 第44-45页 |
| 7．3．2 AFM对ZnO纳米薄膜的表征 | 第45-46页 |
| 7．4 纳米氧化锌薄膜气敏特性的测试 | 第46-58页 |
| 7．4．1 纳米ZnO气敏特性的测试过程 | 第46-47页 |
| 7．4．2 纳米ZnO薄膜气敏特性分析 | 第47-58页 |
| 7．4．2．1 不同样品对于同一种气体的气敏反应特性 | 第47-53页 |
| 7．4．2．2 同一样品对于不同气体的气敏反映特性 | 第53-58页 |
| 第八章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及申请的专利 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
