| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACTS | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| §1.1 引言 | 第8-11页 |
| §1.1.1 纳米材料的定义 | 第10页 |
| §1.1.2 纳米科技的发展 | 第10-11页 |
| §1.2 纳米材料的新效应 | 第11-12页 |
| §1.2.1 表面效应 | 第11页 |
| §1.2.2 体积效应 | 第11-12页 |
| §1.3 纳米材料的性能 | 第12-13页 |
| §1.3.1 力学性能 | 第12页 |
| §1.3.2 热力学性能 | 第12-13页 |
| §1.3.3 电性能 | 第13页 |
| §1.3.4 磁性能 | 第13页 |
| §1.3.5 光性能 | 第13页 |
| §1.3.6 化学性能 | 第13页 |
| §1.4 纳米材料的制备方法 | 第13-14页 |
| §1.4.1 物理方法 | 第14页 |
| §1.4.2 化学方法 | 第14页 |
| §1.5 模板法合成纳米材料 | 第14-17页 |
| §1.5.1 模板合成概述 | 第14-15页 |
| §1.5.2 模板的类型 | 第15页 |
| §1.5.3 模板法分类 | 第15-17页 |
| §1.6 表面等离子体亚波长光学及应用 | 第17-21页 |
| 第二章 AAO模板的制备及表征 | 第21-42页 |
| §2.1 引言 | 第21-22页 |
| §2.2 AAO模板性能 | 第22-25页 |
| §2.2.1 结构性能 | 第22-23页 |
| §2.2.2 物理化学和机械性能 | 第23-25页 |
| §2.3 阳极氧化铝模板的制备 | 第25-30页 |
| §2.3.1 铝箔的预处理过程 | 第25-28页 |
| §2.3.2 阳极氧化过程 | 第28-29页 |
| §2.3.3 铝箔的后处理过程 | 第29-30页 |
| §2.4 实验结果及其SEM和AFM表征 | 第30-35页 |
| §2.4.1 一步与二步氧化法制备的AAO模板比较 | 第31-32页 |
| §2.4.2 退火对AAO模板的影响 | 第32-33页 |
| §2.4.3 不同电解液中得到的AAO模板 | 第33-34页 |
| §2.4.3 电压对AAO模板的影响 | 第34-35页 |
| §2.4.4 温度对AAO模板的影响 | 第35页 |
| §2.4.5 浓度对AAO模板的影响 | 第35页 |
| §2.5 结果讨论与生长机理探索 | 第35-40页 |
| §2.5.1 影响AAO模板质量因素讨论 | 第35-37页 |
| §2.5.2 AAO模板生长机理探索 | 第37-40页 |
| §2.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第三章 AAO模板法制备纳米阵列材料及其表征 | 第42-76页 |
| §3.1 引言 | 第42-43页 |
| §3.2 AAO模板法制备纳米线阵列的发展概况 | 第43-47页 |
| §3.2.1 用途 | 第43-46页 |
| §3.2.2 制备及检测 | 第46页 |
| §3.2.3 纳米线的表征和影响因素 | 第46页 |
| §3.2.4 发展趋势 | 第46-47页 |
| §3.3 形状记忆合金概述(选材意义) | 第47-49页 |
| §3.4 用脉冲激光溅射(PLD)法制备纳米阵列 | 第49-51页 |
| §3.4.1 PLD简介 | 第49-51页 |
| §3.5 磁控溅射制备纳米材料 | 第51-55页 |
| §3.5.1 磁控溅射原理 | 第51-52页 |
| §3.5.2 AAO模板上溅射Ag纳米线 | 第52-53页 |
| §3.5.3 AAO模板上溅射Ag量子点阵列 | 第53-54页 |
| §3.5.4 抛光铝片上溅射Ag岛膜 | 第54-55页 |
| §3.6 电沉积方法制备纳米材料 | 第55-61页 |
| §3.6.1 电沉积制备纳米材料进展 | 第55-56页 |
| §3.6.2 Co-Ni合金纳米管有序阵列的制备 | 第56-59页 |
| §3.6.4 Fe-Pd合金纳米线有序阵列的制备 | 第59-61页 |
| §3.7 浸润法制备纳米材料 | 第61-62页 |
| §3.7.1 Ti-Pd合金纳米有序阵列的制备 | 第61-62页 |
| §3.7.2 Fe-Pd合金纳米有序阵列的制备 | 第62页 |
| §3.8 压差法制备钛钯合金纳米线 | 第62-63页 |
| §3.9 溶胶-凝胶法制备纳米材料 | 第63-64页 |
| §3.9.1 溶胶—凝胶法的基本原理 | 第63页 |
| §3.9.2 溶胶—凝胶法制备Fe纳米膜 | 第63-64页 |
| §3.10 激光分子束外延(LMBE)制备纳米材料 | 第64-72页 |
| §3.10.1 LMBE概述 | 第64-65页 |
| §3.10.2 Ti-Pd合金纳米阵列的制备 | 第65-70页 |
| §3.10.3 Fe-Pd合金线的制备 | 第70-71页 |
| §3.10.4 Ti-Pd合金和Fe-Pd合金纳米管的制备 | 第71-72页 |
| §3.11 本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 第四章 AAO模板在拉曼光谱学上的应用 | 第76-99页 |
| §4.1 引言 | 第76页 |
| §4.2 SERS概述 | 第76-78页 |
| §4.3 SERS的主要应用 | 第78-80页 |
| §4.4 纳米粗糙级SERS基底的研究概况 | 第80-83页 |
| §4.5 AAO为基底研究苏丹红分子在抛光铝片上的吸附状态 | 第83-96页 |
| §4.5.1 引言 | 第83-84页 |
| §4.5.2 实验部分 | 第84-96页 |
| §4.6 本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 第五章 结论与展望 | 第99-101页 |
| §5.1 主要的实验结果和结论 | 第99-100页 |
| §5.2 今后工作展望 | 第100-101页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第101-102页 |
| 致谢 | 第102页 |
