| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| ·论文选题背景 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-17页 |
| ·本文主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 离散单元法 | 第18-27页 |
| ·离散单元法原理 | 第18-19页 |
| ·单元间接触的搜索 | 第19-23页 |
| ·单元间的接触模型 | 第23-25页 |
| ·DEM中时间步长的选取 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 格子Boltzmann法 | 第27-43页 |
| ·格子Boltzmann法的历史 | 第27-28页 |
| ·格子Boltzmann法的基本思想及特点 | 第28-29页 |
| ·格子Boltzmann模型 | 第29-35页 |
| ·格子Boltzmann法的湍流模型及非牛顿模型 | 第35-37页 |
| ·格子Boltzmann法的边界处理及与离散元法的耦合 | 第37-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 抛光垫与晶片间压力分布研究 | 第43-47页 |
| ·数学模型的构造 | 第43-44页 |
| ·CMP工艺参数对压力分布的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 磨粒在晶片表面运动轨迹研究 | 第47-51页 |
| ·CMP中流场形态的研究 | 第47-48页 |
| ·磨粒在晶片表面下的运动轨迹研究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 结论和展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第59页 |