摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 VO_2的结构、热致相变性能及其应用 | 第13-20页 |
1.2.1 VO_2的晶型结构 | 第13-14页 |
1.2.2 VO_2相变机理研究 | 第14-17页 |
1.2.3 VO_2的热致相变性能 | 第17-20页 |
1.2.4 VO_2薄膜的应用 | 第20页 |
1.3 VO_2薄膜的制备 | 第20-23页 |
1.3.1 溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
1.3.2 磁控溅射法 | 第22-23页 |
1.3.3 化学气相沉积法 | 第23页 |
1.3.4 脉冲激光沉积法 | 第23页 |
1.4 VO_2薄膜的改性 | 第23-27页 |
1.4.1 VO_2薄膜相变温度的调节 | 第24页 |
1.4.2 VO_2薄膜的太阳光调节效率和可见光透过率的平衡 | 第24-26页 |
1.4.3 VO_2薄膜颜色的改善 | 第26页 |
1.4.4 VO_2薄膜的结构优化设计 | 第26-27页 |
1.5 本论文的研究目的、意义及主要内容 | 第27-30页 |
第二章 VO_2薄膜的溶胶-凝胶法制备及其密闭环境热处理工艺研究 | 第30-49页 |
2.1 引言 | 第30-31页 |
2.2实验 | 第31-33页 |
2.2.1 VO_2薄膜的制备 | 第31-32页 |
2.2.2 VO_2薄膜光学性能与微观结构表征 | 第32-33页 |
2.3 结果与讨论 | 第33-47页 |
2.3.1 不同气氛热处理对氧化钒薄膜性能和结构的影响 | 第33-37页 |
2.3.2 前驱体中钒离子浓度对VO_2薄膜性能和结构的影响 | 第37-39页 |
2.3.3 旋涂次数对VO_2薄膜性能和结构的影响 | 第39-40页 |
2.3.4 热处理工艺对VO_2薄膜性能和结构的影响 | 第40-47页 |
2.4 小结 | 第47-49页 |
第三章 密封NH3法制备VO_2薄膜及形成机理研究 | 第49-72页 |
3.1 引言 | 第49页 |
3.2实验 | 第49-51页 |
3.2.1 VO_2薄膜的制备 | 第49-50页 |
3.2.2 VO_2薄膜的物相结构及光学性能表征 | 第50-51页 |
3.3 结果与讨论 | 第51-71页 |
3.3.1 本底气压对VO_2薄膜组成和性能的影响 | 第51-57页 |
3.3.2 热处理温度对VO_2薄膜组成和性能的影响 | 第57-62页 |
3.3.3 热处理保温时间对VO_2薄膜组成和性能的影响 | 第62-65页 |
3.3.4 NH_3还原法制备VO_2薄膜的形成机理研究 | 第65-69页 |
3.3.5 VO_2薄膜的耐久性 | 第69-71页 |
3.4 小结 | 第71-72页 |
第四章 N掺杂对VO_2薄膜的影响及机理研究 | 第72-98页 |
4.1 引言 | 第72-74页 |
4.2.实验 | 第74-76页 |
4.2.1 N掺杂VO_2薄膜样品的制备 | 第74-75页 |
4.2.2 VO_2薄膜样品结构及光学性能表征 | 第75页 |
4.2.3 VO_2的第一性原理计算方法 | 第75-76页 |
4.3 结果与讨论 | 第76-97页 |
4.3.1 退火NH_3浓度对VO_2薄膜组成,结构和光学性能的影响 | 第76-88页 |
4.3.2 前驱体中PVP掺量对VO_2薄膜结构和光学性能的影响 | 第88-93页 |
4.3.3 N掺杂VO_2的第一性原理计算 | 第93-97页 |
4.4 小结 | 第97-98页 |
第五章 衬底对VO_2薄膜性能的影响 | 第98-108页 |
5.1 引言 | 第98-99页 |
5.2 实验部分 | 第99-101页 |
5.2.1 不同衬底VO_2薄膜样品的制备 | 第99页 |
5.2.2 衬底成分和光学性能分析 | 第99-101页 |
5.2.3 VO_2薄膜样品结构及性能表征 | 第101页 |
5.3 结果与讨论 | 第101-107页 |
5.3.1 钠钙硅玻璃衬底制备的氧化钒薄膜 | 第101-102页 |
5.3.2 硼硅酸盐玻璃衬底制备的氧化钒薄膜 | 第102-103页 |
5.3.3 不同衬底制备的VO_2薄膜结构和光学性能对比 | 第103-107页 |
5.4 小结 | 第107-108页 |
第六章 结论与展望 | 第108-110页 |
6.1 结论 | 第108-109页 |
6.2 展望 | 第109-110页 |
参考文献 | 第110-123页 |
博士期间发表的论文及专利 | 第123-124页 |
致谢 | 第124页 |