| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12-13页 |
| 1.2 氧化铝的基本性质 | 第13-15页 |
| 1.3 国内外氧化铝薄膜研究进展 | 第15-22页 |
| 1.3.1 CVD法沉积氧化铝薄膜 | 第15-16页 |
| 1.3.2 PVD沉积氧化铝薄膜 | 第16-18页 |
| 1.3.3 HPPMS制备α-Al_2O_3薄膜 | 第18-21页 |
| 1.3.4 α-Cr_2O_3促进α-Al_2O_3形核长大 | 第21-22页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第22-25页 |
| 1.4.1 本文选题依据 | 第22-23页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 试验材料、设备与方法 | 第25-32页 |
| 2.1 实验流程 | 第25页 |
| 2.2 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.3 实验设备与原理 | 第26-28页 |
| 2.4 实验方法 | 第28-29页 |
| 2.5 分析表征设备 | 第29-32页 |
| 2.5.1 掠入射X射线衍射(GIXRD)分析 | 第29页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第29页 |
| 2.5.3 纳米硬度和弹性模量测试 | 第29-32页 |
| 第三章 Al_(50)Cr_(50)合金靶材促进低温沉积α-(Al,Cr)_2O_3薄膜的研究 | 第32-47页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 高功率脉冲磁控溅射法沉积(Al,Cr)_2O_3薄膜工艺参数 | 第32-33页 |
| 3.3 薄膜相组成结构分析 | 第33-37页 |
| 3.3.1 氧分压对薄膜相组成结构的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.2 沉积温度对薄膜相组成结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.3 工作气压对薄膜相组成结构的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 薄膜微观表面形貌及成分分析 | 第37-42页 |
| 3.4.1 氧分压对薄膜表面形貌及成分的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.2 基体沉积温度对薄膜表面形貌及成分的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.3 工作气压对薄膜表面形貌及成分的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 薄膜微观断面形貌分析 | 第42-45页 |
| 3.5.1 氧分压对薄膜表面形貌及成分的影响 | 第42-43页 |
| 3.5.2 沉积温度对薄膜沉积速率的影响 | 第43-44页 |
| 3.5.3 工作气压对薄膜沉积速率的影响 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 高功率脉冲磁控溅射法溅射Al_XCr_(100-X)靶材沉积(Al,Cr)_2O_3薄膜工艺研究 | 第47-64页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 高功率脉冲磁控溅射不同靶材沉积薄膜工艺参数 | 第47页 |
| 4.3 薄膜相组成结构分析 | 第47-49页 |
| 4.4 薄膜微观表面形貌及成分分析 | 第49-52页 |
| 4.5 薄膜微观断面形貌分析 | 第52-54页 |
| 4.6 温度对稳定溅射靶材沉积薄膜的影响 | 第54-63页 |
| 4.6.1 沉积温度对溅射Al_(50)Cr_(50)溅射薄膜的的影响 | 第54-58页 |
| 4.6.2 沉积温度对溅射Al70Cr30沉积溅射薄膜的的影响 | 第58-63页 |
| 4.7 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 溅射Al_XCr_(100-X)靶材沉积(Al,Cr)_2O_3薄膜力学性能研究 | 第64-79页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 HPPMS沉积Al_2O_3和Cr_2O_3薄膜 | 第64-68页 |
| 5.2.1 HPPMS沉积Al_2O_3薄膜 | 第64-66页 |
| 5.2.2 HPPMS沉积Cr_2O_3薄膜 | 第66-68页 |
| 5.3 靶材成分对薄膜结构和沉积速率的影响 | 第68-72页 |
| 5.4 靶材成分对薄膜力学性能的影响 | 第72-77页 |
| 5.4.1 溅射Al_xCr_(100-x)靶材沉积薄膜的纳米硬度 | 第72-76页 |
| 5.4.2 溅射Al_xCr_(100-x)靶材沉积薄膜的弹性模量 | 第76-77页 |
| 5.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 全文总结 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 附件 | 第93页 |
