| 中文摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| 1.1 等离激元光学 | 第12-14页 |
| 1.1.1 等离激元光学的概念与分类 | 第12-13页 |
| 1.1.2 等离激元光学的发展历史 | 第13-14页 |
| 1.2 等离激元光学晶体及其制备方法 | 第14-19页 |
| 1.2.1 自上而下法 | 第16-17页 |
| 1.2.2 自下而上法 | 第17-19页 |
| 1.3 等离激元光学晶体的应用 | 第19-26页 |
| 1.3.1 等离激元光学晶体的SERS应用 | 第19-22页 |
| 1.3.2 等离激元光学晶体的显示应用 | 第22-26页 |
| 1.4 本论文的主要研究工作 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-36页 |
| 第二章 过滤自组装等离激元光学晶体的制备 | 第36-50页 |
| 2.1 引言 | 第36-37页 |
| 2.2 实验部分 | 第37-39页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第37页 |
| 2.2.2 金纳米粒子的制备 | 第37-38页 |
| 2.2.3 等离激元光学晶体的过滤自组装制备 | 第38页 |
| 2.2.4 理论模拟 | 第38-39页 |
| 2.2.5 表征 | 第39页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第39-46页 |
| 2.3.1 二氧化硅粒径的优化 | 第39-40页 |
| 2.3.2 二氧化硅质量分数的优化 | 第40-41页 |
| 2.3.3 等离激元光学晶体的制备 | 第41-42页 |
| 2.3.4 理论模拟 | 第42-44页 |
| 2.3.5 等离激元光学晶体的拉曼表征 | 第44-45页 |
| 2.3.6 等离激元光学晶体的拉曼增强因子计算 | 第45-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第三章 等离激元光学晶体滤膜的微生物检测应用 | 第50-71页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-54页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第51-52页 |
| 3.2.2 产电菌样品处理 | 第52页 |
| 3.2.3 那西肽样品处理 | 第52页 |
| 3.2.4 革兰氏染色 | 第52-53页 |
| 3.2.5 镀银尼龙微孔滤膜的制备及样品检测 | 第53页 |
| 3.2.6 等离激元光学晶体滤膜的制备及样品检测 | 第53页 |
| 3.2.7 SERS基底的结构表征 | 第53页 |
| 3.2.8 拉曼表征 | 第53-54页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第54-64页 |
| 3.3.1 等离激元光学晶体滤膜的结构表征 | 第54页 |
| 3.3.2 等离激元光学晶体滤膜的产电菌检测应用 | 第54-60页 |
| 3.3.3 等离激元光学晶体滤膜的链霉菌孢子检测应用 | 第60-64页 |
| 3.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 第四章 基于自组装结构转印的等离激元光学晶体制备 | 第71-94页 |
| 4.1 引言 | 第71-73页 |
| 4.2 实验部分 | 第73-77页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第73-74页 |
| 4.2.2 基底的处理 | 第74页 |
| 4.2.3 纳米粒子溶液的配制 | 第74-75页 |
| 4.2.4 液-气界面自组装 | 第75页 |
| 4.2.5 转印条件优化 | 第75-76页 |
| 4.2.6 电子束蒸镀 | 第76页 |
| 4.2.7 表征 | 第76-77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-90页 |
| 4.3.1 聚多巴胺修饰时间对基底的影响 | 第77-78页 |
| 4.3.2 基底亲水性和粘性表征 | 第78-80页 |
| 4.3.3 二氧化硅质量分数优化 | 第80-81页 |
| 4.3.4 无机基底表面单层有序结构的转印制备 | 第81-84页 |
| 4.3.5 有机基底表面单层有序结构的转印制备 | 第84-85页 |
| 4.3.6 曲面单层有序结构的转印制备 | 第85-86页 |
| 4.3.7 玻片表面单层有序结构的稳定性研究 | 第86-88页 |
| 4.3.8 玻片表面有序结构的层层自组装转印制备 | 第88-89页 |
| 4.3.9 有序结构表面金属镀膜 | 第89-90页 |
| 4.4 本章小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-94页 |
| 第五章 自组装等离激元光学晶体的显示应用 | 第94-113页 |
| 5.1 引言 | 第94-96页 |
| 5.2 实验部分 | 第96-98页 |
| 5.2.1 试剂与仪器 | 第96页 |
| 5.2.2 掩膜版的制备 | 第96-97页 |
| 5.2.3 基底的处理 | 第97页 |
| 5.2.4 纳米粒子的液-气界面自组装 | 第97页 |
| 5.2.5 电子束蒸镀 | 第97页 |
| 5.2.6 表征 | 第97-98页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第98-108页 |
| 5.3.1 大面积等离激元光学晶体修饰 | 第98-104页 |
| 5.3.2 刚性表面等离激元光学晶体图案的制备 | 第104-107页 |
| 5.3.3 柔性表面等离激元光学晶体图案的制备 | 第107-108页 |
| 5.4 本章小结 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-113页 |
| 第六章 总结与展望 | 第113-115页 |
| 博士期间研究成果 | 第115-118页 |
| 发表论文 | 第115-116页 |
| 会议论文 | 第116-117页 |
| 已申请专利 | 第117-118页 |
| 博士期间所获奖励与科研资助 | 第118-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |