摘要 | 第3-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
符号说明 | 第14-15页 |
第一章 绪论 | 第15-33页 |
1.1 概述 | 第15-16页 |
1.2 煤加氢气化工艺技术研究 | 第16-23页 |
1.2.1 煤基甲烷化技术 | 第16页 |
1.2.2 煤加氢气化的工业化进展 | 第16-23页 |
1.3 煤加氢气化的影响因素 | 第23-29页 |
1.3.1 热解条件的影响 | 第23-25页 |
1.3.2 操作条件的影响 | 第25-29页 |
1.4 煤加氢气化反应机理 | 第29-30页 |
1.5 论文研究目标和内容 | 第30-33页 |
第二章 实验部分 | 第33-45页 |
2.1 实验原料 | 第33页 |
2.2 实验试剂 | 第33-34页 |
2.3 实验设备 | 第34页 |
2.4 实验装置及操作流程 | 第34-38页 |
2.4.1 实验装置和反应系统 | 第34-35页 |
2.4.2 脱灰处理 | 第35页 |
2.4.3 半焦制备 | 第35-36页 |
2.4.4 半焦加氢气化操作过程 | 第36-37页 |
2.4.5 质量流量计的准确性校正 | 第37-38页 |
2.5 气化产品组成的分析方法 | 第38-42页 |
2.5.1 分析仪器及其工作条件 | 第38-39页 |
2.5.2 定性分析 | 第39-40页 |
2.5.3 定量分析 | 第40-42页 |
2.6 固态样品的分析表征 | 第42-43页 |
2.6.1 工业分析和元素分析 | 第42页 |
2.6.2 X射线衍射分析(XRD) | 第42页 |
2.6.3 激光拉曼光谱分析(Raman) | 第42-43页 |
2.6.4 氮吸附表面积及孔径分析(BET) | 第43页 |
2.6.5 傅里叶红外光谱分析(FTIR) | 第43页 |
2.6.6 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第43页 |
2.7 数据处理和计算方法 | 第43-45页 |
第三章 热解终温对半焦理化性质的影响 | 第45-61页 |
3.1 半焦的工业分析和元素分析 | 第45-46页 |
3.2 半焦的XRD分析 | 第46-48页 |
3.3 半焦的Raman分析 | 第48-51页 |
3.4 半焦的FTIR分析 | 第51-56页 |
3.4.1 半焦的FTIR图分析 | 第51-52页 |
3.4.2 热解煤中含氧官能团演化分析 | 第52-56页 |
3.5 半焦的BET分析 | 第56-58页 |
3.6 半焦的SEM分析 | 第58-59页 |
3.7 小结 | 第59-61页 |
第四章 制备条件对半焦加氢气化反应的影响 | 第61-81页 |
4.1 内扩散、外扩散的影响 | 第61-62页 |
4.2 热解终温对半焦加氢气化反应的影响 | 第62-66页 |
4.3 热解恒温时间对半焦加氢气化反应的影响 | 第66-68页 |
4.4 热解升温速率对半焦加氢气化反应的影响 | 第68-71页 |
4.5 热解气氛、压力对半焦加氢气化反应的影响 | 第71-72页 |
4.6 灰分对半焦加氢气化反应的影响 | 第72-78页 |
4.6.1 灰分对半焦加氢气化特性的影响 | 第72-75页 |
4.6.2 灰分对半焦残渣微晶结构的影响 | 第75-76页 |
4.6.3 灰分对半焦残渣孔结构的影响 | 第76-78页 |
4.7 小结 | 第78-81页 |
第五章 操作条件对半焦加氢气化反应的影响 | 第81-95页 |
5.1 反应温度对半焦加氢气化反应的影响 | 第81-86页 |
5.1.1 反应温度对半焦加氢气化反应碳转化率的影响 | 第81-83页 |
5.1.2 反应温度对半焦加氢气化反应速率的影响 | 第83-84页 |
5.1.3 反应温度对半焦加氢气化反应产气规律的影响 | 第84-86页 |
5.2 反应压力对半焦加氢气化反应的影响 | 第86-90页 |
5.2.1 反应压力对半焦加氢气化反应碳转化率的影响 | 第86-87页 |
5.2.2 反应压力对半焦加氢气化反应速率的影响 | 第87-89页 |
5.2.3 反应压力对半焦加氢气化反应产气规律的影响 | 第89-90页 |
5.3 升温速率对半焦加氢气化反应的影响 | 第90-92页 |
5.3.1 升温速率对半焦加氢气化反应碳转化率的影响 | 第90-91页 |
5.3.2 升温速率对半焦加氢气化反应速率的影响 | 第91页 |
5.3.3 升温速率对半焦加氢气化反应产气规律的影响 | 第91-92页 |
5.4 小结 | 第92-95页 |
第六章 结论与建议 | 第95-99页 |
6.1 主要结论 | 第95-97页 |
6.2 不足之处和工作建议 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-107页 |
附录Ⅰ | 第107-109页 |
致谢 | 第109-111页 |
发表论文和专利 | 第111页 |