摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-30页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第11-13页 |
1.2 双光子聚合技术国内外研究现状 | 第13-27页 |
1.2.1 双光子聚合加工参数的研究 | 第13-16页 |
1.2.2 双光子聚合快速加工技术 | 第16-17页 |
1.2.3 双光子聚合体元间距的研究 | 第17-18页 |
1.2.4 双光子聚合技术的加工装置 | 第18-20页 |
1.2.5 双光子聚合大面积制造技术的研究 | 第20-23页 |
1.2.6 双光子聚合技术路径规划及数据格式分层技术的研究 | 第23-27页 |
1.3 双光子聚合技术加工三维微纳结构现阶段存在的问题 | 第27-28页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第28-30页 |
第二章 双光子聚合大面积快速结构化加工平台 | 第30-54页 |
2.1 双光子聚合大面积快速结构化加工平台工作原理与设计方案 | 第30-32页 |
2.2 基于误差分析的大行程运动平台设计 | 第32-41页 |
2.2.1 影响体元位姿的几何误差辨识 | 第33-34页 |
2.2.2 大行程运动平台的空间误差建模 | 第34-36页 |
2.2.3 误差模型的敏感性分析 | 第36-41页 |
2.3 双光子聚合光路系统设计 | 第41-44页 |
2.4 在线监测系统 | 第44-45页 |
2.5 基于拟静态曝光的三维椭圆运动装置 | 第45-47页 |
2.6 二维扫描振镜 | 第47-48页 |
2.7 多轴联动控制系统 | 第48-49页 |
2.8 大面积微流体结构的加工及检测 | 第49-53页 |
2.8.1 双光子聚合加工实验平台 | 第49页 |
2.8.2 双光子聚合加工实验材料 | 第49-50页 |
2.8.3 微流体的设计及加工 | 第50-52页 |
2.8.4 微流体表面质量检测 | 第52-53页 |
2.9 本章小结 | 第53-54页 |
第三章 双光子聚合连续扫描曝光机理的研究 | 第54-73页 |
3.1 双光子聚合加工的扫描方式 | 第54-56页 |
3.2 相邻体元的邻近效应 | 第56-63页 |
3.3 连续扫描方式下纳米纤维截面尺寸的建模 | 第63-68页 |
3.4 纳米纤维截面尺寸模型的实验验证 | 第68-71页 |
3.5 本章小结 | 第71-73页 |
第四章 快速结构化加工中拟静态曝光新方法的研究 | 第73-81页 |
4.1 快速进给中光通量补偿的可行性分析 | 第73-74页 |
4.2 双光子聚合拟静态曝光方法 | 第74-78页 |
4.2.1 体元的拟静态曝光 | 第74-75页 |
4.2.2 多个连续体元的拟静态曝光 | 第75-78页 |
4.3 拟静态曝光加工的实验研究 | 第78-80页 |
4.4 本章小结 | 第80-81页 |
第五章 基于AMF数据格式的自适应分层处理技术 | 第81-100页 |
5.1 AMF数据格式的特点及优势 | 第81-82页 |
5.1.1 现有的数据格式 | 第81-82页 |
5.1.2 AMF数据格式的优势 | 第82页 |
5.2 AMF数据格式与STL数据格式实例对比 | 第82-86页 |
5.3 AMF格式复杂三维结构数据处理与加工 | 第86-93页 |
5.4 基于特征方向切片轮廓数据的自适应分层算法 | 第93-99页 |
5.5 本章小结 | 第99-100页 |
第六章 结论与展望 | 第100-103页 |
6.1 结论 | 第100-101页 |
6.2 论文中提出的新方法和新思路 | 第101-102页 |
6.3 对后续研究工作的展望 | 第102-103页 |
致谢 | 第103-105页 |
参考文献 | 第105-116页 |
作者简介 | 第116-117页 |
攻读博士学位期间研究成果 | 第117-118页 |