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离子液体电沉积法构筑硅锗有序大孔结构

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第1章 绪论第15-35页
    1.1 课题背景及研究意义第15-16页
    1.2 有序大孔材料的研究现状第16-29页
        1.2.1 有序大孔材料的概念第16-18页
        1.2.2 有序大孔材料的制备第18-22页
        1.2.3 Si 有序大孔材料的研究现状第22-25页
        1.2.4 Ge 有序大孔材料的研究现状第25-29页
    1.3 离子液体电沉积的研究现状第29-33页
        1.3.1 离子液体的定义第29-30页
        1.3.2 离子液体的特点第30-32页
        1.3.3 离子液体电沉积制备半导体第32-33页
    1.4 本文的主要研究内容第33-35页
第2章 实验材料和研究方法第35-40页
    2.1 实验药品与仪器第35-36页
        2.1.1 实验药品第35-36页
        2.1.2 实验仪器第36页
    2.2 实验操作第36-38页
        2.2.1 模板的组装第36-37页
        2.2.2 预处理及电沉积第37-38页
    2.3 表征方法第38-40页
        2.3.1 形貌的表征第38页
        2.3.2 结构与成分的表征第38页
        2.3.3 其他测试第38-40页
第3章 硅锗薄膜的制备第40-70页
    3.1 离子液体的选择第40-41页
    3.2 [EMIM]TF_2N 中沉积硅锗薄膜第41-64页
        3.2.1 [EMIm]Tf_2N 的电化学特性第42-44页
        3.2.2 电极反应控制步骤第44-46页
        3.2.3 沉积电位的影响第46-51页
        3.2.4 电解液组成的影响第51-52页
        3.2.5 薄膜的表征第52-60页
        3.2.6 薄膜的高真空氢气还原第60-64页
    3.3 PY_(1,4)TF_2N 中沉积硅锗薄膜第64-68页
        3.3.1 Py_(1,4)Tf_2N 的电化学特性第65页
        3.3.2 Py_(1,4)Tf_2N 中制备硅锗的分析第65-68页
    3.4 本章小结第68-70页
第4章 胶体晶体模板的制备及其填充第70-86页
    4.1 胶体晶体的制备第70-76页
        4.1.1 表面形貌第70-71页
        4.1.2 光谱特性第71-76页
    4.2 胶体晶体的填充第76-82页
        4.2.1 填充形式第76-77页
        4.2.2 填充手段第77-82页
    4.3 胶体晶体的去除第82-84页
        4.3.1 热处理法第82-83页
        4.3.2 有机溶剂溶解法第83-84页
    4.4 本章小结第84-86页
第5章 三维有序大孔硅锗薄膜的制备第86-101页
    5.1 [EMIM]TF_2N 中制备三维有序大孔硅锗第86-93页
        5.1.1 填充过程的研究第86-88页
        5.1.2 沉积电位的影响第88-89页
        5.1.3 沉积时间的影响第89-90页
        5.1.4 胶体晶体模板的影响第90-92页
        5.1.5 三维有序大孔硅锗的光谱特性第92-93页
    5.2 PY_(1,4)TF_2N 中制备三维有序大孔硅锗第93-94页
    5.3 叠层有序大孔薄膜的制备第94-99页
        5.3.1 Si/Ge 叠层有序大孔薄膜第94-96页
        5.3.2 Al/Ge 叠层有序大孔薄膜第96-99页
    5.4 本章小结第99-101页
第6章 高温下制备二维有序大孔硅锗薄膜第101-112页
    6.1 高温电沉积制备硅锗薄膜第101-104页
        6.1.1 温度对电化学行为的影响第101-102页
        6.1.2 温度对薄膜组成的影响第102-104页
    6.2 高温电沉积制备二维有序大孔硅锗薄膜第104-110页
        6.2.1 温度对胶体晶体的影响第104-105页
        6.2.2 温度对二维产物形貌的影响第105-107页
        6.2.3 二维有序大孔硅锗的光谱特性第107-110页
    6.3 本章小结第110-112页
结论第112-114页
参考文献第114-124页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第124-127页
致谢第127-128页
个人简历第128页

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