| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 硅薄膜太阳电池的发展历史 | 第12-13页 |
| 1.3 柔性非晶硅薄膜太阳电池的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4 非晶硅薄膜 | 第15-18页 |
| 1.4.1 非晶硅的结构 | 第16页 |
| 1.4.2 非晶硅材料的光电特性 | 第16-18页 |
| 1.5 本文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第19-25页 |
| 2.1 非晶硅薄膜制备技术 | 第19-20页 |
| 2.1.1 电子束物理气相沉积法(EB-PVD) | 第19页 |
| 2.1.2 微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD) | 第19-20页 |
| 2.1.3 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) | 第20页 |
| 2.2 磁控溅射的基本原理及特点 | 第20-23页 |
| 2.2.1 基本原理 | 第20-22页 |
| 2.2.2 磁控溅射的分类 | 第22页 |
| 2.2.3 磁控溅射的特点 | 第22-23页 |
| 2.3 薄膜的沉积过程 | 第23-24页 |
| 2.3.1 溅射的成膜过程 | 第23页 |
| 2.3.2 影响薄膜生成的因素 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 实验部分 | 第25-32页 |
| 3.1 实验仪器设备 | 第25-27页 |
| 3.1.1 磁控溅射系统 | 第25页 |
| 3.1.2 真空抽气系统 | 第25-26页 |
| 3.1.3 溅射镀膜室 | 第26-27页 |
| 3.1.4 检测组件 | 第27页 |
| 3.2 实验过程 | 第27-29页 |
| 3.3 薄膜表征 | 第29-31页 |
| 3.3.1 膜厚的测量 | 第29页 |
| 3.3.2 X-射线衍射 | 第29-30页 |
| 3.3.3 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 3.3.4 光学性能测定 | 第30页 |
| 3.3.5 电学性能测定 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 本征非晶硅薄膜的制备与性能研究 | 第32-56页 |
| 4.1 柔性PET衬底上制备非晶硅(本征)薄膜的性能研究 | 第32-45页 |
| 4.1.1 溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第32-39页 |
| 4.1.1.1 薄膜的表面形貌分析 | 第32-34页 |
| 4.1.1.2 薄膜晶体结构分析 | 第34页 |
| 4.1.1.3 薄膜的沉积效率分析 | 第34-35页 |
| 4.1.1.4 薄膜的光学性能分析 | 第35-39页 |
| 4.1.2 工作压力对薄膜结构和性能的影响 | 第39-45页 |
| 4.1.2.1 薄膜的表面形貌分析 | 第40页 |
| 4.1.2.2 薄膜晶体结构的分析 | 第40-41页 |
| 4.1.2.3 薄膜的沉积速率分析 | 第41-42页 |
| 4.1.2.4 薄膜的光学性能分析 | 第42-45页 |
| 4.2 玻璃衬底上制备非晶硅(本征)薄膜的性能研究 | 第45-55页 |
| 4.2.1 溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第45-50页 |
| 4.2.1.1 薄膜的表面形貌分析 | 第45页 |
| 4.2.1.2 薄膜的晶体结构分析 | 第45-46页 |
| 4.2.1.3 薄膜的沉积速率分析 | 第46-47页 |
| 4.2.1.4 薄膜的光学性能分析 | 第47-50页 |
| 4.2.2 工作压力对薄膜结构和性能的影响 | 第50-55页 |
| 4.2.2.1 薄膜的表面形貌分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2.2 薄膜的晶体结构分析 | 第51页 |
| 4.2.2.3 薄膜的沉积速率分析 | 第51-52页 |
| 4.2.2.4 薄膜的光学性能分析 | 第52-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 硼掺杂非晶硅薄膜结构与性能研究 | 第56-78页 |
| 5.1 柔性PET衬底上制备非晶硅(掺硼)薄膜的性能研究 | 第56-66页 |
| 5.1.1 溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第56-61页 |
| 5.1.1.1 薄膜的表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 5.1.1.2 薄膜的沉积速率分析 | 第57-58页 |
| 5.1.1.3 薄膜的光学性能分析 | 第58-61页 |
| 5.1.1.4 薄膜的电学性能分析 | 第61页 |
| 5.1.2 工作压力对薄膜结构和性能的影响 | 第61-66页 |
| 5.1.2.1 薄膜的表面形貌分析 | 第62页 |
| 5.1.2.2 薄膜的沉积速率分析 | 第62-63页 |
| 5.1.2.3 薄膜的光学性能分析 | 第63-66页 |
| 5.1.2.4 薄膜的电学性能分析 | 第66页 |
| 5.2 玻璃衬底上制备非晶硅(掺硼)薄膜的性能研究 | 第66-75页 |
| 5.2.1 溅射功率对薄膜结构与性能的影响 | 第66-71页 |
| 5.2.1.1 薄膜表面形貌的分析 | 第66-67页 |
| 5.2.1.2 薄膜的晶体结构分析 | 第67页 |
| 5.2.1.3 薄膜的沉积速率分析 | 第67-68页 |
| 5.2.1.4 薄膜的光学性能分析 | 第68-71页 |
| 5.2.2 工作压力对薄膜结构与性能的影响 | 第71-75页 |
| 5.2.2.1 薄膜的表面形貌分析 | 第71页 |
| 5.2.2.2 薄膜的晶体结构分析 | 第71-72页 |
| 5.2.2.3 薄膜的沉积速率分析 | 第72页 |
| 5.2.2.4 薄膜的光学性能分析 | 第72-75页 |
| 5.3 多层硅膜的制备与表征 | 第75-76页 |
| 5.3.1 多层硅膜的表面形貌表征 | 第75-76页 |
| 5.3.2 多层薄膜的透光率 | 第76页 |
| 5.4 本章小结 | 第76-78页 |
| 第6章 结论与展望 | 第78-80页 |
| 6.1 结论 | 第78页 |
| 6.2 展望 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
