镁合金微弧氧化膜层退除工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 微弧氧化膜层退除技术概述 | 第10-11页 |
| 1.3 微弧氧化膜层退除工艺的研究进展 | 第11-12页 |
| 1.4 镁合金表面膜层退除工艺研究进展 | 第12-15页 |
| 1.4.1 镁合金表面腐蚀产物层的退除工艺 | 第12-14页 |
| 1.4.2 镁合金表面电镀层的退除工艺 | 第14-15页 |
| 1.5 实验研究内容及目的 | 第15-17页 |
| 第二章 实验过程 | 第17-24页 |
| 2.1 微弧氧化材料及工艺 | 第17-18页 |
| 2.1.1 试样制备 | 第17页 |
| 2.1.2 微弧氧化设备及工艺介绍 | 第17-18页 |
| 2.2 退膜实验 | 第18-19页 |
| 2.3 退膜试剂的选择 | 第19-20页 |
| 2.3.1 酸性试剂的选择 | 第19-20页 |
| 2.3.2 缓蚀剂的选择 | 第20页 |
| 2.4 实验方法 | 第20-23页 |
| 2.4.1 硝酸系退膜液 | 第20-21页 |
| 2.4.2 草酸系退膜液 | 第21-22页 |
| 2.4.3 植酸系退膜液 | 第22-23页 |
| 2.5 退膜效果表征 | 第23-24页 |
| 第三章 硝酸系退膜液工艺研究 | 第24-36页 |
| 3.1 极差分析与最优配方的确定 | 第24-28页 |
| 3.2 退膜过程分析 | 第28-31页 |
| 3.3 膜层厚度与腐蚀分析 | 第31-32页 |
| 3.4 退膜前后表面形貌及物相分析 | 第32-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 草酸系退膜液工艺研究 | 第36-44页 |
| 4.1 极差分析与最优配方的确定 | 第36-38页 |
| 4.2 退膜过程分析 | 第38-41页 |
| 4.3 退膜前后镁合金表面形貌 | 第41页 |
| 4.4 膜层厚度与粗糙度的关系 | 第41-42页 |
| 4.5 膜层厚度与退膜时间 | 第42-43页 |
| 4.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 植酸系退膜液工艺研究 | 第44-52页 |
| 5.1 缓蚀剂缓蚀效果分析 | 第44-48页 |
| 5.1.1 缓蚀剂浓度与腐蚀速率及缓蚀率的关系 | 第44-45页 |
| 5.1.2 腐蚀形貌分析 | 第45-48页 |
| 5.2 退膜过程分析 | 第48-49页 |
| 5.3 退膜前后镁合金形貌 | 第49-50页 |
| 5.4 膜层厚度与退膜时间的关系 | 第50-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
