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二维振动辅助抛光新方法及系统研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第1章 绪论第11-23页
    1.1 课题的提出第11-13页
    1.2 二维振动辅助材料去除加工的研究现状第13-21页
        1.2.1 二维振动辅助切削第14-16页
        1.2.2 二维振动辅助磨削第16-17页
        1.2.3 二维振动辅助抛光第17-21页
    1.3 本文研究内容第21-23页
第2章 二维振动辅助抛光新方法的理论研究第23-39页
    2.1 抛光工具闭合运动的生成第23-34页
        2.1.1 抛光工具李萨如运动轨迹的闭合条件第23-25页
        2.1.2 二维振动参数对抛光工具闭合运动轨迹的影响第25-29页
        2.1.3 二维振动参数对抛光工具运动轨迹的影响第29-31页
        2.1.4 抛光工具作闭合运动的速度分布第31-34页
    2.2 二维振动辅助抛光去除函数第34-38页
        2.2.1 抛光区域的接触压强第34-35页
        2.2.2 抛光工具与工件之间的相对速度第35-36页
        2.2.3 抛光去除函数第36页
        2.2.4 去除函数数值仿真第36-38页
    2.3 本章小结第38-39页
第3章 基于二维振动驱动的抛光加工系统研发第39-57页
    3.1 解耦共振型二维驱动抛光系统第39-43页
    3.2 解耦非共振型二维驱动抛光系统第43-47页
    3.3 基于抛光力实时在线准确测量的夹具第47-49页
    3.4 二维振动驱动抛光系统性能测试与分析第49-56页
        3.4.1 解耦共振型二维驱动抛光系统性能测试与分析第49-52页
        3.4.2 解耦非共振型二维驱动抛光系统性能测试与分析第52-56页
    3.5 本章小结第56-57页
第4章 解耦共振型二维驱动抛光实验第57-73页
    4.1 抛光加工实验系统第57-59页
    4.2 抛光力分析第59-64页
    4.3 抛光去除函数第64-71页
        4.3.1 抛光去除函数第65-66页
        4.3.2 抛光去除深度第66-71页
    4.4 本章小结第71-73页
第5章 解耦非共振型二维驱动抛光实验第73-87页
    5.1 抛光加工实验系统第73-75页
    5.2 抛光力分析第75-79页
    5.3 抛光去除函数第79-86页
        5.3.1 抛光去除函数第79-81页
        5.3.2 抛光去除深度第81-86页
    5.4 本章小结第86-87页
第6章 结论与展望第87-91页
    6.1 结论第87-88页
    6.2 主要创新性工作第88页
    6.3 展望第88-91页
参考文献第91-101页
附录Ⅰ 柔度矩阵法计算公式第101-103页
作者简介与攻读学位期间的主要研究成果第103-105页
致谢第105-106页

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