基于氧化铟薄膜氨气浓度检测性能的研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 纳米材料 | 第8-10页 |
| 1.1.1 纳米材料的特性 | 第8-9页 |
| 1.1.2 纳米晶格缺陷 | 第9-10页 |
| 1.2 氧化铟材料简介及应用 | 第10-13页 |
| 1.2.1 氧化铟材料简介 | 第10-13页 |
| 1.2.2 氧化铟气敏材料的应用 | 第13页 |
| 1.3 本课题研究的目的和意义 | 第13-15页 |
| 1.4 氨敏传感器的研究现状及发展趋势 | 第15-16页 |
| 1.5 论文研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 1.6 本章小结 | 第17-18页 |
| 第2章 气敏材料及敏感机理 | 第18-24页 |
| 2.1 气敏材料 | 第18-20页 |
| 2.1.1 氧化铟粉体的制备 | 第18-19页 |
| 2.1.2 烧结温度对材料性能的影响 | 第19页 |
| 2.1.3 掺杂处理 | 第19-20页 |
| 2.2 氧化铟对氨气的敏感机理 | 第20-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 方案设计及表征方法 | 第24-29页 |
| 3.1 试剂及器材 | 第24-25页 |
| 3.1.1 主要实验试剂 | 第24页 |
| 3.1.2 主要实验仪器 | 第24-25页 |
| 3.2 表征方法及原理 | 第25-27页 |
| 3.2.1 原子力显微镜（AFM） | 第25页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第25-26页 |
| 3.2.3 X-射线晶体衍射仪(XRD) | 第26-27页 |
| 3.3 气敏测试方案设计 | 第27-28页 |
| 3.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 氧化铟薄膜的制备及表征 | 第29-46页 |
| 4.1 氧化铟薄膜的制备 | 第29-36页 |
| 4.1.1 溶胶-凝胶法 | 第29-30页 |
| 4.1.2 氧化实验 | 第30-31页 |
| 4.1.3 溶胶-凝胶法制备氧化铟 | 第31-36页 |
| 4.2 实验条件的确定 | 第36-39页 |
| 4.2.1 氧化铟薄膜退火温度的确定 | 第36-38页 |
| 4.2.2 氧化铟薄膜pH值的确定 | 第38-39页 |
| 4.3 制备掺杂钼离子的氧化铟薄膜 | 第39-43页 |
| 4.4 电极的制作 | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 气敏性能的测试 | 第46-52页 |
| 5.1 气敏测试系统 | 第46页 |
| 5.2 灵敏度的测试 | 第46-47页 |
| 5.3 选择性的测试 | 第47-50页 |
| 5.4 工作温度的测试 | 第50页 |
| 5.5 响应-恢复时间的测试 | 第50-51页 |
| 5.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
