| 中文摘要 | 第5-7页 |
| 英文摘要 | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 自旋电子学简介 | 第11页 |
| 1.2 铁磁材料与Mott二流体模型 | 第11-13页 |
| 1.3 铁磁/非磁/铁磁三明治结构的磁电阻效应 | 第13-17页 |
| 1.3.1 巨磁电阻(GMR)效应 | 第13-14页 |
| 1.3.2 隧道磁电阻(TMR)效应 | 第14-15页 |
| 1.3.3 自旋极化率 | 第15-17页 |
| 1.4 自旋注入 | 第17-21页 |
| 1.4.1 电导失配问题 | 第17-19页 |
| 1.4.2 Hanle效应 | 第19-21页 |
| 1.5 自旋弛豫机制 | 第21-26页 |
| 1.5.1 Elliott-Yafet(EY)机制 | 第22-23页 |
| 1.5.2 D'yakonov-Perel’(DP)机制 | 第23-24页 |
| 1.5.3 Bir-Aronov-Pikus(BAP)机制 | 第24-25页 |
| 1.5.4 超精细相互作用机制 | 第25-26页 |
| 1.6 有机自旋电子学 | 第26-33页 |
| 1.6.1 有机自旋阀 | 第26-27页 |
| 1.6.2 铁磁有机界面的自旋注入 | 第27-30页 |
| 1.6.3 有机半导体中的自旋弛豫 | 第30-33页 |
| 参考文献 | 第33-37页 |
| 第二章 实验技术和方法 | 第37-47页 |
| 2.1 有机自旋阀器件的制备 | 第37-41页 |
| 2.1.1 激光分子束外延与氧化物薄膜生长 | 第37-38页 |
| 2.1.2 气体散射生长金属电极 | 第38-41页 |
| 2.2 微纳加工 | 第41-44页 |
| 2.2.1 紫外光刻与电子束光刻 | 第41-42页 |
| 2.2.2 聚焦离子束刻蚀 | 第42-44页 |
| 2.3 样品表征 | 第44-46页 |
| 2.3.1 磁性质测量 | 第44页 |
| 2.3.2 磁输运性质与铁磁共振测量 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 Alq_3/Co界面自旋注入的研究 | 第47-63页 |
| 3.1 前言 | 第47-48页 |
| 3.2 实验 | 第48-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-59页 |
| 3.4 主要结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第四章 有机自旋阀中偏压极性调控磁电阻符号的研究 | 第63-73页 |
| 4.1 前言 | 第63页 |
| 4.2 实验 | 第63-64页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第64-69页 |
| 4.4 主要结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 第五章 Alq_3分子中纯自旋流的注入与输运性质的研究 | 第73-87页 |
| 5.1 前言 | 第73-74页 |
| 5.2 实验 | 第74-76页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第76-84页 |
| 5.4 主要结论 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 总结 | 第87-89页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
