摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
1 绪论 | 第8-16页 |
·引言 | 第8页 |
·ZnO的基本性质 | 第8-11页 |
·ZnO的电学性质 | 第10页 |
·ZnO的光学性质 | 第10-11页 |
·ZnO的压电性质 | 第11页 |
·ZnO/Si异质结的应用 | 第11-14页 |
·ZnO/Si异质结发光二极管 | 第11-13页 |
·ZnO/Si异质结光电探测器 | 第13-14页 |
·本论文的选题依据、研究内容及创新点 | 第14-16页 |
·选题依据 | 第14页 |
·研究内容 | 第14-15页 |
·创新点 | 第15-16页 |
2 ZnO薄膜的制备方法及样品的表征技术 | 第16-25页 |
·引言 | 第16页 |
·靶材的制备 | 第16-17页 |
·固相反应法 | 第16页 |
·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
·薄膜制备工艺及基本原理 | 第17-20页 |
·磁控溅射法 | 第17-18页 |
·脉冲激光沉积法 | 第18-19页 |
·激光分子束外延技术 | 第19-20页 |
·ZnO薄膜的表征技术及原理 | 第20-24页 |
·X射线衍射 | 第20-21页 |
·原子力显微镜 | 第21-22页 |
·透射光谱 | 第22-23页 |
·光致发光光谱 | 第23-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
3 Zn_(1-x)Mg_xO靶材及薄膜的制备 | 第25-30页 |
·引言 | 第25页 |
·靶材的制备 | 第25-26页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的制备 | 第26-29页 |
·实验过程 | 第26-28页 |
·实验参数 | 第28-29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
4 Zn_(1-x)Mg_xO靶材及薄膜的性质分析 | 第30-44页 |
·引言 | 第30页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO靶材的性质分析 | 第30-32页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO靶材的组分分析 | 第30-31页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO靶材的结构测试及分析 | 第31-32页 |
·薄膜的性质分析 | 第32-43页 |
·薄膜的结构分析 | 第32-33页 |
·薄膜的拉曼光谱 | 第33-34页 |
·薄膜的表面形貌分析 | 第34-36页 |
·薄膜的PL光谱 | 第36-39页 |
·薄膜的吸收光谱 | 第39-40页 |
·薄膜的透射光谱 | 第40-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
5 Mg_(0.5)Zn_(0.5)O/p-Si异质结的制备及光电特性研究 | 第44-55页 |
·引言 | 第44页 |
·Zn_(0.5)Mg_(0.5)O/p-Si异质结的制备 | 第44-45页 |
·Zn_(0.5)Mg_(0.5)O/p-Si异质结的结构分析 | 第45页 |
·Zn_(0.5)Mg_(0.5)O/p-Si异质结常温下的伏安特性分析 | 第45-50页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO/p-Si异质结的紫外光伏响应 | 第50-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
6 结论及展望 | 第55-57页 |
·结论 | 第55-56页 |
·展望 | 第56-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
附录 | 第62页 |