| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 1 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·钙钛矿结构钴氧化物的结构特性 | 第8-10页 |
| ·晶体结构 | 第8-9页 |
| ·电子结构 | 第9-10页 |
| ·La_(1-x)Sr_xCoO_3体系的相图及输运特性 | 第10页 |
| ·几种常用的输运模式 | 第10-11页 |
| ·电荷有序 | 第11页 |
| ·理论模型解释 | 第11-13页 |
| ·钴氧化物的双交换作用 | 第11-12页 |
| ·超交换作用 | 第12页 |
| ·Jahn-Teller畸变效应 | 第12-13页 |
| ·极化子模型 | 第13页 |
| ·研究现状及选题依据 | 第13-15页 |
| 2 实验方法及表征手段 | 第15-26页 |
| ·靶材的制备方法与原理 | 第15-16页 |
| ·固相反应法 | 第15-16页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第16页 |
| ·薄膜的制备方法与原理 | 第16-22页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第18-20页 |
| ·激光分子束外延技术 | 第20-22页 |
| ·结构的表征方法及原理 | 第22-24页 |
| ·X射线衍射 | 第22-23页 |
| ·表面形貌表征 | 第23-24页 |
| ·样品低温输运特性测量 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 3 (La_(1-x)Pr_x)_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3系列钴氧化物薄膜的制备及物性研究 | 第26-43页 |
| ·概述 | 第26页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3系列靶材的制备 | 第26-28页 |
| ·实验工具及主要化学试剂 | 第26页 |
| ·靶材的制备工艺 | 第26-27页 |
| ·靶材的结构分析 | 第27-28页 |
| ·(La_(1-x)Pr_x)_(0.7)Sr_(0.3)CoO_3系列薄膜的制备 | 第28-30页 |
| ·薄膜样品的XRD图谱 | 第30-31页 |
| ·薄膜样品的表面形貌 | 第31-34页 |
| ·电极与欧姆接触 | 第34-35页 |
| ·薄膜的电输运特性 | 第35-39页 |
| ·薄膜在不同温度下的光致电阻特性 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 La_(0.82)Sr_(0.18)Co_(1-x)Cr_xO_3系列钴氧化物薄膜的制备及物性研究 | 第43-57页 |
| ·概述 | 第43页 |
| ·La_(0.82)Sr_(0.18)Co_(1-x)Cr_xO_3系列靶材的制备 | 第43-45页 |
| ·主要化学试剂和制备方法 | 第43页 |
| ·靶材的结构分析 | 第43-45页 |
| ·La_(0.82)Sr_(0.18)Co_(1-x)Cr_xO_3系列薄膜的制备 | 第45页 |
| ·薄膜材料的XRD图谱 | 第45-46页 |
| ·薄膜材料的表面形貌 | 第46-49页 |
| ·薄膜的电输运特性 | 第49-53页 |
| ·薄膜在不同温度下的光致电阻特性 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第64页 |
