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掺杂Fe4N材料电磁性能及其电导行为研究

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-10页
第1章 绪论第10-20页
   ·引言第10-11页
   ·Fe_4N 材料简介第11-14页
     ·Fe_4N 的晶体结构第11-13页
     ·Fe_4N 的研究现状第13-14页
   ·三元铁氮化合物的研究现状第14-17页
     ·不同掺杂元素的研究现状第14-16页
     ·Ga 和 Ni 元素掺杂 Fe_4N 的研究现状第16-17页
   ·研究意义与主要内容第17-20页
     ·研究目的与意义第17-18页
     ·研究内容第18-20页
第2章 掺杂 Fe_4N 材料的电磁理论第20-30页
   ·掺杂后的晶体结构和电子结构第20-22页
     ·Ga、Ni 掺杂后的晶体结构第20-21页
     ·Ga、Ni 掺杂后的电子结构第21-22页
   ·复磁导率与品质因子第22-24页
     ·复数磁导率第22-23页
     ·材料的品质因子第23-24页
   ·磁导率的影响因素第24-26页
     ·起始磁导率第24-25页
     ·低频下磁导率的影响因素第25页
     ·高频下磁导率的影响因素第25-26页
   ·趋肤效应与涡流损耗第26-28页
   ·本章小结第28-30页
第3章 Fe_(4-x)Ga_xN 粉体的制备及其电磁性能的研究第30-48页
   ·Ga 掺杂 Fe_4N 粉体的制备工艺第30-36页
     ·实验原料及设备第30页
     ·制备工艺过程第30-33页
     ·还原温度对产物的影响第33-34页
     ·掺杂量的确定第34-36页
   ·粉体表征第36-37页
     ·Fe_(4-x)Ga_xN 的晶体结构第36-37页
     ·Fe_(4-x)Ga_xN 粉体的微观形貌第37页
   ·Ga 掺杂对 Fe_4N 热稳定性的影响第37-39页
     ·Ga 掺杂对 Fe_4N 抗氧化性的影响第37-38页
     ·Ga 掺杂对 Fe_4N 脱氮温度的影响第38-39页
   ·Ga 掺杂对 Fe_4N 磁性能的影响第39-42页
     ·Ga 掺杂对 Fe_4N 饱和磁化强度的影响第39-41页
     ·Ga 掺杂对 Fe_4N 矫顽力的影响第41-42页
   ·Ga 掺杂对 Fe_4N 复磁导率的影响第42-46页
     ·粘接磁环的制备第42-43页
     ·测量方法与原理第43-44页
     ·Ga 掺杂对 Fe_4N 复磁导率的影响第44-46页
   ·本章小结第46-48页
第4章 Fe_(4-x)Ni_xN 粉体的制备及其电磁性能的研究第48-56页
   ·Fe_(4-x)Ni_xN 粉体的制备及物相分析第48-50页
     ·Fe_(4-x)Ni_xN 粉体的制备第48-49页
     ·Ni 掺杂 Fe_4N 粉体的物相分析第49-50页
   ·Ni 掺杂对 Fe_4N 热稳定性的影响第50-51页
     ·Ni 掺杂对 Fe_4N 抗氧化性的影响第50-51页
     ·Ni 掺杂对 Fe_4N 脱氮温度的影响第51页
   ·Ni 掺杂对 Fe_4N 磁性能的影响第51-53页
   ·Ni 掺杂对 Fe_4N 电磁性能的影响第53-55页
   ·本章小结第55-56页
第5章 Ga、Ni 掺杂对 Fe_4N 电阻率的影响第56-68页
   ·Fe_(4-x)M_xN(M=Ga,Ni)三元氮化物薄膜的制备第56-63页
     ·Fe-Ga 二元合金薄膜的制备第56-59页
     ·Fe-Ni 二元合金薄膜的制备第59-60页
     ·合金薄膜的氮化第60页
     ·氮化后薄膜的 XRD 分析第60-62页
     ·FeNi 薄膜氮化前后的 SEM 分析第62-63页
   ·Fe_(4-x)M_xN(M=Ga,Ni)薄膜电阻率的测量第63-64页
     ·薄膜厚度测试表征第63-64页
     ·霍尔测试系统测量电阻率第64页
   ·霍尔测试结果分析第64-66页
   ·本章小结第66-68页
结论第68-70页
参考文献第70-74页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第74-76页
致谢第76页

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