摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-14页 |
第1章 绪论 | 第14-20页 |
·研究目的及意义 | 第14-15页 |
·国内研究现状 | 第15-16页 |
·国外研究现状 | 第16-18页 |
·硅烷处理方法 | 第18-19页 |
·研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验材料及方法 | 第20-29页 |
·实验材料 | 第20-23页 |
·实验试剂 | 第20-21页 |
·主要试剂介绍 | 第21-22页 |
·实验仪器 | 第22-23页 |
·金属表面的前处理 | 第23-25页 |
·铸铝合金的前处理 | 第23-24页 |
·A3 钢的前处理 | 第24-25页 |
·硅烷溶液的制备 | 第25页 |
·单一硅烷溶液的制备 | 第25页 |
·复合硅烷溶液的制备 | 第25页 |
·掺杂粉体硅烷溶液的制备 | 第25页 |
·硅烷膜的制备 | 第25页 |
·涂装膜的制备 | 第25页 |
·硅烷膜的形貌观察 | 第25-26页 |
·红外光谱仪测试 | 第26页 |
·性能检测 | 第26-29页 |
·硅烷溶液电导率测试 | 第26页 |
·硅烷溶液粘度的测定 | 第26-27页 |
·硅烷膜的耐蚀性能检测 | 第27-28页 |
·漆膜和基体结合强度及厚度的测试 | 第28-29页 |
第3章 良好硅烷膜的初步筛选 | 第29-46页 |
·引言 | 第29页 |
·铝合金表面硅烷膜的初步筛选 | 第29-39页 |
·用一种硅烷溶液浸涂两次制备涂膜 | 第29-33页 |
·用两种硅烷溶液各浸涂一次制备涂膜 | 第33-34页 |
·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液制备涂膜 | 第34-35页 |
·KH550 硅烷膜的电化学测试 | 第35-39页 |
·A3 钢表面硅烷膜的初步筛选 | 第39-41页 |
·用一种硅烷浸涂两次制备涂膜 | 第39-40页 |
·用两种硅烷溶液各浸涂一次制备涂膜 | 第40页 |
·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液制备涂膜 | 第40-41页 |
·KH567 硅烷膜的电化学测试 | 第41-43页 |
·金属表面涂覆不同硅烷的电化学测试对比 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第4章 KH550 和 KH567 硅烷溶液性能的研究 | 第46-55页 |
·引言 | 第46页 |
·硅烷溶液的稳定性 | 第46-50页 |
·KH550 硅烷溶液的稳定性研究 | 第46-48页 |
·KH567 硅烷溶液的稳定性研究 | 第48-49页 |
·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液的稳定性研究 | 第49-50页 |
·KH567 硅烷溶液的水解工艺的确定 | 第50-52页 |
·硅烷用量的影响 | 第50-51页 |
·溶液浓度的影响 | 第51页 |
·pH 的影响 | 第51-52页 |
·KH550 硅烷溶液水解的影响因素 | 第52-54页 |
·硅烷用量的影响 | 第52-53页 |
·溶液浓度的影响 | 第53页 |
·pH 的影响 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第5章 A3 钢表面硅烷膜的制备及性能研究 | 第55-69页 |
·引言 | 第55页 |
·硅烷膜的性能分析 | 第55-57页 |
·硫酸铜点滴试验 | 第56页 |
·盐水浸泡试验 | 第56页 |
·漆膜附着力测试 | 第56-57页 |
·电化学测试 | 第57-60页 |
·RA-IR 测试 | 第60-62页 |
·硅烷膜的表面形貌 | 第62-67页 |
·硅烷膜的三维形貌图 | 第62-64页 |
·硅烷膜的二维形貌图 | 第64-65页 |
·硅烷膜的表面轮廓图 | 第65-66页 |
·硅烷膜的 SEM 表面形貌 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第6章 铸铝合金表面硅烷膜的制备及性能研究 | 第69-87页 |
·引言 | 第69页 |
·制备 KH550 硅烷膜的正交试验 | 第69-74页 |
·不同硅烷膜的性能对比 | 第74-75页 |
·电化学测试 | 第75-78页 |
·RA-IR 测试 | 第78-80页 |
·硅烷膜的微观形貌 | 第80-85页 |
·硅烷膜的三维形貌图 | 第80-81页 |
·硅烷膜的二维形貌图 | 第81-82页 |
·硅烷膜的孔穴分布图 | 第82-83页 |
·硅烷膜的表面轮廓图 | 第83-84页 |
·硅烷膜的 SEM 表面形貌 | 第84-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
结论 | 第87-89页 |
参考文献 | 第89-96页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |