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硅烷膜的制备及性能研究

摘要第1-8页
Abstract第8-14页
第1章 绪论第14-20页
   ·研究目的及意义第14-15页
   ·国内研究现状第15-16页
   ·国外研究现状第16-18页
   ·硅烷处理方法第18-19页
   ·研究内容第19-20页
第2章 实验材料及方法第20-29页
   ·实验材料第20-23页
     ·实验试剂第20-21页
     ·主要试剂介绍第21-22页
     ·实验仪器第22-23页
   ·金属表面的前处理第23-25页
     ·铸铝合金的前处理第23-24页
     ·A3 钢的前处理第24-25页
   ·硅烷溶液的制备第25页
     ·单一硅烷溶液的制备第25页
     ·复合硅烷溶液的制备第25页
     ·掺杂粉体硅烷溶液的制备第25页
     ·硅烷膜的制备第25页
   ·涂装膜的制备第25页
   ·硅烷膜的形貌观察第25-26页
   ·红外光谱仪测试第26页
   ·性能检测第26-29页
     ·硅烷溶液电导率测试第26页
     ·硅烷溶液粘度的测定第26-27页
     ·硅烷膜的耐蚀性能检测第27-28页
     ·漆膜和基体结合强度及厚度的测试第28-29页
第3章 良好硅烷膜的初步筛选第29-46页
   ·引言第29页
   ·铝合金表面硅烷膜的初步筛选第29-39页
     ·用一种硅烷溶液浸涂两次制备涂膜第29-33页
     ·用两种硅烷溶液各浸涂一次制备涂膜第33-34页
     ·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液制备涂膜第34-35页
     ·KH550 硅烷膜的电化学测试第35-39页
   ·A3 钢表面硅烷膜的初步筛选第39-41页
     ·用一种硅烷浸涂两次制备涂膜第39-40页
     ·用两种硅烷溶液各浸涂一次制备涂膜第40页
     ·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液制备涂膜第40-41页
   ·KH567 硅烷膜的电化学测试第41-43页
   ·金属表面涂覆不同硅烷的电化学测试对比第43-45页
   ·本章小结第45-46页
第4章 KH550 和 KH567 硅烷溶液性能的研究第46-55页
   ·引言第46页
   ·硅烷溶液的稳定性第46-50页
     ·KH550 硅烷溶液的稳定性研究第46-48页
     ·KH567 硅烷溶液的稳定性研究第48-49页
     ·掺杂粉体或铈盐的硅烷溶液的稳定性研究第49-50页
   ·KH567 硅烷溶液的水解工艺的确定第50-52页
     ·硅烷用量的影响第50-51页
     ·溶液浓度的影响第51页
     ·pH 的影响第51-52页
   ·KH550 硅烷溶液水解的影响因素第52-54页
     ·硅烷用量的影响第52-53页
     ·溶液浓度的影响第53页
     ·pH 的影响第53-54页
   ·本章小结第54-55页
第5章 A3 钢表面硅烷膜的制备及性能研究第55-69页
   ·引言第55页
   ·硅烷膜的性能分析第55-57页
     ·硫酸铜点滴试验第56页
     ·盐水浸泡试验第56页
     ·漆膜附着力测试第56-57页
   ·电化学测试第57-60页
   ·RA-IR 测试第60-62页
   ·硅烷膜的表面形貌第62-67页
     ·硅烷膜的三维形貌图第62-64页
     ·硅烷膜的二维形貌图第64-65页
     ·硅烷膜的表面轮廓图第65-66页
     ·硅烷膜的 SEM 表面形貌第66-67页
   ·本章小结第67-69页
第6章 铸铝合金表面硅烷膜的制备及性能研究第69-87页
   ·引言第69页
   ·制备 KH550 硅烷膜的正交试验第69-74页
   ·不同硅烷膜的性能对比第74-75页
   ·电化学测试第75-78页
   ·RA-IR 测试第78-80页
   ·硅烷膜的微观形貌第80-85页
     ·硅烷膜的三维形貌图第80-81页
     ·硅烷膜的二维形貌图第81-82页
     ·硅烷膜的孔穴分布图第82-83页
     ·硅烷膜的表面轮廓图第83-84页
     ·硅烷膜的 SEM 表面形貌第84-85页
   ·本章小结第85-87页
结论第87-89页
参考文献第89-96页
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果第96-97页
致谢第97-98页

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