| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-31页 |
| ·课题来源及研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| ·常用的光学超光滑表面抛光方法 | 第16-19页 |
| ·直接接触抛光 | 第16-17页 |
| ·非接触抛光 | 第17-18页 |
| ·界面反应抛光 | 第18-19页 |
| ·常用的非球面光学元件抛光方法 | 第19-22页 |
| ·计算机控制小工具抛光 | 第19-20页 |
| ·应力盘抛光 | 第20-21页 |
| ·离子束抛光 | 第21页 |
| ·气囊抛光 | 第21-22页 |
| ·磁流变抛光 | 第22页 |
| ·场效应辅助抛光 | 第22-24页 |
| ·磁场辅助抛光 | 第22-23页 |
| ·电流变抛光 | 第23-24页 |
| ·磁流变抛光技术的发展 | 第24-28页 |
| ·磁流变抛光原理 | 第24-25页 |
| ·磁流变抛光技术国外进展 | 第25-27页 |
| ·磁流变抛光技术国内进展 | 第27-28页 |
| ·超声波抛光 | 第28-29页 |
| ·超声波磁流变复合抛光方法的提出 | 第29-30页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第30-31页 |
| 第2章 超声波磁流变复合抛光原理及抛光作用机制 | 第31-50页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·超声波磁流变复合抛光原理 | 第31-33页 |
| ·超声波磁流变复合抛光作用机制 | 第33-40页 |
| ·光学玻璃材料抛光机理 | 第33-35页 |
| ·超声波磁流变复合抛光中磁场与超声的作用机制 | 第35-36页 |
| ·超声对超声波磁流变复合抛光中化学去除作用的影响 | 第36-40页 |
| ·超声波磁流变复合抛光的实验验证 | 第40-49页 |
| ·超声振动方向垂直于工件加工表面的情况 | 第40-46页 |
| ·超声振动方向平行于工件加工表面的情况 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第3章 超声波磁流变复合抛光材料去除模型的建立 | 第50-72页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·超声波磁流变复合抛光中磁场作用下的磁流变液性质研究 | 第50-52页 |
| ·超声波磁流变复合抛光光学玻璃时材料去除模型的建立 | 第52-71页 |
| ·工件静止时的材料去除模型 | 第53-64页 |
| ·工件自转时的材料去除模型 | 第64-66页 |
| ·抛光工具头倾斜时的材料去除模型 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第4章 超声波磁流变复合抛光实验装置研制 | 第72-88页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·超声波磁流变复合抛光实验装置的组成 | 第72-74页 |
| ·超声波磁流变复合抛光装置中旋转超声装置的研制 | 第74-77页 |
| ·超声波磁流变复合抛光中磁场分布形式的选择 | 第77-84页 |
| ·磁流变液循环系统及粘度控制系统的研制 | 第84-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第5章 超声波磁流变复合抛光工艺实验研究 | 第88-104页 |
| ·引言 | 第88页 |
| ·超声波磁流变复合抛光工艺参数 | 第88-89页 |
| ·工艺参数对超声波磁流变复合抛光材料去除率的影响 | 第89-96页 |
| ·磁场强度对抛光材料去除率的影响 | 第90-91页 |
| ·超声振幅对抛光材料去除率的影响 | 第91-92页 |
| ·抛光工具头与工件的间隙对抛光材料去除率的影响 | 第92-93页 |
| ·抛光工具头转速对抛光材料去除率的影响 | 第93-95页 |
| ·工件转速对抛光材料去除率的影响 | 第95-96页 |
| ·工艺参数对超声波磁流变复合抛光表面粗糙度的影响 | 第96-102页 |
| ·磁场强度对抛光表面粗糙度的影响 | 第96-97页 |
| ·超声振幅对抛光表面粗糙度的影响 | 第97-98页 |
| ·抛光工具头与工件的间隙对抛光表面粗糙度的影响 | 第98-100页 |
| ·抛光工具头转速对抛光表面粗糙度的影响 | 第100-101页 |
| ·工件转速对抛光表面粗糙度的影响 | 第101-102页 |
| ·本章小结 | 第102-104页 |
| 结论 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-117页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及发明专利 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 个人简历 | 第120页 |