摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-10页 |
第一章 前言 | 第10-24页 |
·引言 | 第10-11页 |
·半导体光催化技术 | 第11页 |
·半导体结构 | 第11页 |
·半导体的光催化性质 | 第11页 |
·二氧化钛的光催化原理 | 第11-15页 |
·二氧化钛的晶相 | 第11-13页 |
·二氧化钛的能带结构 | 第13页 |
·二氧化钛的光催化原理 | 第13-14页 |
·二氧化钛的光催化反应的动力学 | 第14-15页 |
·二氧化钛的制备方法 | 第15-17页 |
·粉体二氧化钛的制备 | 第15-16页 |
·物理法 | 第15页 |
·化学法 | 第15-16页 |
·二氧化钛膜的制备 | 第16-17页 |
·二氧化钛的表征 | 第17-18页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第17页 |
·热重和差热分析(TG-DTA) | 第17页 |
·透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM) | 第17页 |
·紫外-可见光漫反射吸收光谱(UV-vis) | 第17-18页 |
·光催化性能的影响因素 | 第18-20页 |
·粒径 | 第18页 |
·晶体结构 | 第18-19页 |
·催化剂的用量 | 第19页 |
·表面羟基和缺陷 | 第19-20页 |
·pH值 | 第20页 |
·有机物种类和浓度 | 第20页 |
·低温制备二氧化钛的研究现状 | 第20-23页 |
·研究现状及本文研究思路 | 第23-24页 |
第二章 多种晶相二氧化钛的低温制备及其催化性能研究 | 第24-41页 |
·引言 | 第24页 |
·实验部分 | 第24-29页 |
·实验仪器与试剂 | 第24-26页 |
·光催化反应及装置 | 第26-27页 |
·光催化实验 | 第26-27页 |
·羟基自由基的检测(荧光分析法) | 第27页 |
·二氧化钛的制备 | 第27-29页 |
·以钛酸丁酯为钛源 | 第27-28页 |
·以“钛酸丁酯/三氯化钛”为钛源 | 第28页 |
·以“三氯化钛”、“硫酸钛”为钛源 | 第28页 |
·以“异丙醇钛”为钛源 | 第28-29页 |
·实验结果与讨论 | 第29-39页 |
·二氧化钛的制备条件及晶相分布 | 第29页 |
·多种晶相形成的因素及其机理 | 第29-30页 |
·二氧化钛的表征 | 第30-36页 |
·X射线衍射光谱(XRD) | 第30-31页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第31-32页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第32页 |
·紫外漫反射(UV-vis) | 第32-33页 |
·热分析(TG-DTA) | 第33-34页 |
·红外吸收光谱(FT-IR) | 第34-35页 |
·荧光发射光谱(FL) | 第35-36页 |
·二氧化钛光催化性能 | 第36-38页 |
·甲基橙水溶液的降解 | 第36-37页 |
·亚甲基蓝、罗丹明B水溶液的降解 | 第37-38页 |
·不同种类钛源制备的二氧化钛 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第三章 利用添加剂低温焙烧制备二氧化钛及其催化性能研究 | 第41-56页 |
·引言 | 第41页 |
·实验部分 | 第41-44页 |
·实验仪器与试剂 | 第41-42页 |
·光催化反应 | 第42页 |
·催化剂的制备 | 第42-44页 |
·以尿素作为添加剂 | 第42-43页 |
·以碳酸氢氨作为添加剂 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-55页 |
·以尿素作为添加剂制备的二氧化钛 | 第44-50页 |
·二氧化钛的表征 | 第44-48页 |
·X射线衍射光谱(XRD) | 第44-45页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第45-46页 |
·热分析(TG-DTA) | 第46页 |
·红外吸收光谱(FT-IR) | 第46-48页 |
·光催化性能 | 第48-49页 |
·光催化活性的影响因素 | 第49-50页 |
·焙烧温度 | 第49-50页 |
·尿素添加量 | 第50页 |
·以碳酸氢氨作为添加剂制备的二氧化钛 | 第50-55页 |
·二氧化钛的表征 | 第50-53页 |
·X射线衍射光谱(XRD) | 第50-51页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第51-52页 |
·红外吸收光谱(FT-IR) | 第52-53页 |
·光催化性能 | 第53-54页 |
·光催化活性的影响因素 | 第54-55页 |
·焙烧温度 | 第54页 |
·碳酸氢氨添加量 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第四章 总结与展望 | 第56-58页 |
·总结 | 第56-57页 |
·展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-68页 |
附录 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |