减反射薄膜膜系优化设计及工艺研究
| 独创性声明 | 第1页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·论文研究的意义 | 第10-12页 |
| ·减反射薄膜与国防的关系 | 第10-11页 |
| ·减反射薄膜在日常生活中的应用 | 第11-12页 |
| ·减反射薄膜发展历史及现状 | 第12-16页 |
| ·减反射薄膜的发展历史 | 第12-13页 |
| ·减反射薄膜的发展现状及未来展望 | 第13-16页 |
| ·论文研究的目的和主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 减反射薄膜设计理论基础 | 第17-25页 |
| ·减反射薄膜的减反射原理 | 第17-19页 |
| ·光学薄膜的电磁场理论 | 第19-25页 |
| 第三章 减反射薄膜膜系设计及优化 | 第25-43页 |
| ·减反射薄膜的膜系设计 | 第25-33页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第25-26页 |
| ·单层膜的减反射原理及计算 | 第26-28页 |
| ·双层减反射膜的计算 | 第28-29页 |
| ·三层减反射膜的设计 | 第29-30页 |
| ·代换对理论和矢量作图法设计多层减反射膜 | 第30-33页 |
| ·减反射薄膜膜系的优化 | 第33-39页 |
| ·各种优化方法的比较 | 第33-35页 |
| ·膜系评价函数的建立 | 第35-36页 |
| ·单纯形法优化设计 | 第36-39页 |
| ·优化膜系的光学性能分析 | 第39-43页 |
| 第四章 减反射薄膜的制备及工艺研究 | 第43-57页 |
| ·膜系制备方法的选择 | 第43-45页 |
| ·实验设备简述 | 第45-46页 |
| ·真空系统 | 第45页 |
| ·其它实验装置 | 第45-46页 |
| ·减反射薄膜制备实验 | 第46-48页 |
| ·实验工艺流程 | 第46-47页 |
| ·减反射薄膜的制备 | 第47-48页 |
| ·薄膜制备工艺的研究 | 第48-57页 |
| ·靶-基距、射频靶功率的选择 | 第48-49页 |
| ·真空度对薄膜性能的影响 | 第49-51页 |
| ·氧气含量对薄膜折射率的影响 | 第51-53页 |
| ·基片温度对薄膜折射率的影响 | 第53-54页 |
| ·沉积速率对薄膜性能的影响 | 第54-57页 |
| 第五章 薄膜样品的性能研究 | 第57-64页 |
| ·表面质量检验 | 第57页 |
| ·薄膜的附着力实验 | 第57页 |
| ·不同基片温度样品的AFM形貌分析 | 第57-58页 |
| ·薄膜的物相分析 | 第58-59页 |
| ·光学性能测试及分析 | 第59-61页 |
| ·环境稳定性分析 | 第61-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
