| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·研究意义 | 第9页 |
| ·研究现状 | 第9-12页 |
| ·E 凸集、E 凸函数和 E 凸规划问题的研究现状 | 第9-11页 |
| ·广义凸规划问题解集刻画的研究现状 | 第11-12页 |
| ·本文的安排 | 第12-14页 |
| 2 预备知识 | 第14-19页 |
| ·E凸集、E凸函数和E凸规划问题的相关概念 | 第14-15页 |
| ·E凸函数的方向导数和次微分的相关概念 | 第15-19页 |
| 3 E次微分和E-Gateaux可微的特征性质 | 第19-26页 |
| ·E次微分的特征性质 | 第19-23页 |
| ·E-Gateaux可微的特征性质 | 第23-26页 |
| 4 E-Gateaux可微条件下E凸规划问题解集的刻画 | 第26-34页 |
| ·E-Gateaux可微时的一些等价条件 | 第26-29页 |
| ·E凸规划问题解集的刻画 | 第29-34页 |
| 5 E次微分非空条件下E凸规划问题解集的刻画 | 第34-39页 |
| 6 结论及后续工作 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 附录A：作者攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |